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Nanotrac wave II 納米粒度及zeta電位儀

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  • 公司名稱 大昌華嘉科學(xué)儀器
  • 品牌
  • 型號(hào) NanotracwaveII
  • 所在地
  • 廠商性質(zhì) 其他
  • 更新時(shí)間 2020/12/4 17:33:25
  • 訪問(wèn)次數(shù) 308

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納米粒度及zeta電位儀

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產(chǎn)品詳情

公司介紹:

美國(guó)麥奇克有限公司(Microtrac Inc.)是世界上*的激光應(yīng)用技術(shù)研究和制造廠商,其*的激光粒度分析儀已廣泛應(yīng)用于水泥,磨料,冶金,制藥,石油,石化,陶瓷,*等領(lǐng)域,并成為眾多行業(yè)的質(zhì)量檢測(cè)和控制的分析儀器。Microtrac Inc.公司非常注重技術(shù)創(chuàng)新,近半個(gè)世紀(jì)以來(lái),一直著激光粒度分析的前沿技術(shù),可靠的產(chǎn)品和強(qiáng)大的應(yīng)用支持及完善的售后服務(wù),使得其不斷超越自我,推陳出新,。

Microtrac在在線顆粒大小和形狀測(cè)量方面有超過(guò)25年經(jīng)驗(yàn),了解過(guò)程加工環(huán)境的所有需求,在線測(cè)量的好處就是讓操作者能實(shí)時(shí)的看到過(guò)程的變化,使他們立即作出反應(yīng),得到高質(zhì)量的產(chǎn)品。


儀器簡(jiǎn)介:

納米粒度測(cè)量——?jiǎng)討B(tài)光背散射技術(shù)

隨著顆粒粒徑的減小,例如分子級(jí)別的大小,顆粒對(duì)光的散射效率急劇降低,使得經(jīng)典動(dòng)態(tài)光散射技術(shù)的自相關(guān)檢測(cè)(PCS)變得更加不確定。40多年來(lái),Microtrac公司一直致力于激光散射技術(shù)在顆粒粒度測(cè)量中的應(yīng)用。作為行業(yè)的先鋒,早在1990年,超細(xì)顆粒分析儀器 UPA(UltrafineParticle Analyzer)研發(fā)成功,*引入由于顆粒在懸浮體系中的布朗運(yùn)動(dòng)而產(chǎn)生頻率變化的能譜概念,快速準(zhǔn)確地得到被測(cè)體系的納米粒度分布。2001年,利用背散射(Back-scattered)和異相多譜勒頻移(HeterodyneDoppler Frequency Shifts)技術(shù),結(jié)合動(dòng)態(tài)光散射理論和*的數(shù)學(xué)處理模型,NPA150/250將分析范圍延伸至0.3nm-10μm,樣品濃度更可高達(dá)百分之四十,基本實(shí)現(xiàn)樣品的原位檢測(cè)。異相多普勒頻移技術(shù)采用可控參考穩(wěn)定頻率,直接比照因顆粒的布朗運(yùn)動(dòng)而產(chǎn)生的頻率漂移,綜合考慮被測(cè)體系的實(shí)時(shí)溫度和粘度,較之于傳統(tǒng)的自相關(guān)技術(shù),信號(hào)強(qiáng)度高出幾個(gè)數(shù)量級(jí)。另外,新型“Y”型梯度光纖探針的使用,實(shí)現(xiàn)了對(duì)樣品的直接測(cè)量,*的減少了背景噪音,提高了儀器的分辨率。


Zeta電位測(cè)量:

美國(guó)麥奇克有限公司(Microtrac Inc.)以其在激光衍射/散射技術(shù)和顆粒表征方面的獨(dú)到見(jiàn)解,經(jīng)過(guò)多年的市場(chǎng)調(diào)研和潛心研究,開(kāi)發(fā)出一代Nanotrac wave II微電場(chǎng)分析技術(shù),融納米顆粒粒度分布與Zeta電位測(cè)量于一體,無(wú)需傳統(tǒng)的比色皿,一次進(jìn)樣即可得到準(zhǔn)確的粒度分布和Zeta電位分析數(shù)據(jù)。與傳統(tǒng)的Zeta電位分析技術(shù)相比,Nanotrac wave II采用*的“Y”型光纖探針光路設(shè)計(jì),配置膜電極產(chǎn)生微電場(chǎng),操作簡(jiǎn)單,測(cè)量迅速,無(wú)需精確定位由于電泳和電滲等效應(yīng)導(dǎo)致的靜止層,無(wú)需外加大功率電場(chǎng),無(wú)需更換分別用于測(cè)量粒度和Zeta電位的樣品池,*消除由于空間位阻(不同光學(xué)元器件間的傳輸損失,比色皿器壁的折射和污染,比色皿位置的差異,分散介質(zhì)的影響,顆粒間多重散射等)帶來(lái)的光學(xué)信號(hào)的損失,結(jié)果準(zhǔn)確可靠,重現(xiàn)性好。


測(cè)量原理:

粒度測(cè)量:動(dòng)態(tài)光背散射技術(shù)和全量程米氏理論處理

Zeta電位測(cè)量:膜電極設(shè)計(jì)與“Y”型探頭形成微電場(chǎng)測(cè)量電泳遷移率

分子量測(cè)量:水力直徑或德拜曲線


光學(xué)系統(tǒng):

3mW780nm半導(dǎo)體固定位置激光器,通過(guò)梯度步進(jìn)光纖直接照射樣品,在固定位置用硅光二極管接受背散射光信號(hào),無(wú)需校正光路


軟件系統(tǒng):

*的Microtrac FLEX軟件提供強(qiáng)大的數(shù)據(jù)處理能力,包括圖形,數(shù)據(jù)輸出/輸入,個(gè)性化輸出報(bào)告,及各種文字處理功能,如PDF格式輸出, Internet共享數(shù)據(jù),Microsoft Access格式(OLE)等。體積,數(shù)量,面積及光強(qiáng)分布,包括積分/微分百分比和其他分析統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)。數(shù)據(jù)的完整性符合21 CFR PART 11安全要求,包括口令保護(hù),電子簽名和*等。


外部環(huán)境:

電源要求:90-240VAC,5A,50/60Hz

環(huán)境要求:溫度,10-35°C

標(biāo)準(zhǔn):符合ISO13321,ISO13099-2:2012 和 ISO22412:2008


主要特點(diǎn):

? 采用的動(dòng)態(tài)光散射技術(shù),引入能普概念代替?zhèn)鹘y(tǒng)光子相關(guān)光譜法

? 的“Y”型光纖光路系統(tǒng),通過(guò)藍(lán)寶石測(cè)量窗口,直接測(cè)量懸浮體系中的顆粒粒度分布,在加載電流的情況下,與膜電極對(duì)應(yīng)產(chǎn)生微電場(chǎng),測(cè)量同一體系的Zeta電位, 避免樣品交叉污染與濃度變化。

? 的異相多譜勒頻移技術(shù),較之傳統(tǒng)的方法,獲得光信號(hào)強(qiáng)度高出幾個(gè)數(shù)量級(jí),提高分析結(jié)果的可靠性。

? 的可控參比方法(CRM),能精細(xì)分析多譜勒頻移產(chǎn)生的能譜,確保分析的靈敏度。

? 超短的顆粒在懸浮液中的散射光程設(shè)計(jì),減少了多重散射現(xiàn)象的干擾,保證高濃度溶液中納米顆粒測(cè)試的準(zhǔn)確性。

? 的快速傅利葉變換算法(FFT,F(xiàn)ast FourierTransform Algorithm Method),迅速處理檢測(cè)系統(tǒng)獲得的能譜,縮短分析時(shí)間。

? 膜電極設(shè)計(jì),避免產(chǎn)生熱效應(yīng),能準(zhǔn)確測(cè)量顆粒電泳速度。

? 無(wú)需比色皿,毛細(xì)管電泳池或外加電極池,僅需點(diǎn)擊Zeta電位操作鍵,一分鐘內(nèi)即可得到分析結(jié)果

? 消除多種空間位阻對(duì)散射光信號(hào)的干擾,諸如光路中不同光學(xué)元器件間傳輸?shù)膿p失,樣品池位置不同帶來(lái)的誤差,比色皿器壁的折射與污染,分散介質(zhì)的影響,多重散射的衰減等,提高靈敏度。

納米粒度及zeta電位儀

納米粒度及zeta電位儀 Nanotrac wave II

產(chǎn)品參數(shù)
粒度分析范圍 0.3nm-10µm
重現(xiàn)性 誤差≤1%
濃度范圍 100ppb-40%w/v
檢測(cè)角度 180°
分析時(shí)間 30-120秒
準(zhǔn)確性 全量程米氏理論及非球形顆粒校正因子
測(cè)量精度 無(wú)需預(yù)選,依據(jù)實(shí)際測(cè)量結(jié)果,自動(dòng)生成單峰/多峰分布結(jié)果
理論設(shè)計(jì)溫度 0-90℃,可以進(jìn)行程序升溫或降溫
兼容性 水相和有機(jī)相


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