Xevo® G2-XS Tof結合StepWave™離子光學組件和XS碰撞室技術，保持良好選擇性和靈敏度
產品概述
§ 結合StepWave™離子光學組件和XS碰撞室技術，保持著一如既往的良好選擇性，同時帶來靈敏度的顯著提升。
§ 長時分析期間，關鍵的硬件組件可持久保持潔凈，為您提供更重現性的結果，保證實驗室生產效率。
§ 分析大量樣品時，可獲取比以往更多、更有意義的組分信息，幫助您全面深入了解樣品，制定更可靠的決策。
§ 本系統可在短時間內收集充分了解樣品所需的詳盡、準確的各目標組分定性及定量信息，完整展現出現代分離技術的優勢。
優勢特點：
§ 保證性能的同時大化提升穩定性
§ 通用離子源結構
通用型離子源結構可以將單一分析平臺用于多種不同應用和化合物類型，并可以根據需求和優先情況的變化添加新的功能。所有離子源選件都設計為可快速互換，并在數分鐘內即可使用。
§ 高穩定性
當樣品中不同組分的濃度相差很大時，仍需根據峰面積和精確質量數準確測定每種成分。
§ 全面的定性和定量信息
利用Xevo G2-XS Tof，您可以快速輕松地設計出一個實驗，無論是否進行色譜分離，都可為每種可檢測組分收集精確質量數母離子和碎片離子數據。
配置
離子源 | ESI、ESCi®、APCI、APPI、APGC、ASAP和 ionKey/ MS™ |
啟動軟件 | InliStart |
數據采集 | UPLC/MSE |
碰撞室 | XS碰撞室 |
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