CVD金剛石的一個重要性質是它具有*的熱導率。在室溫條件下, 金剛石的熱導率是銅的五倍。同時,它本身又是*的絕緣材料。因此可以應用金剛石膜制作X射線光源陽極透射靶材, X射線窗口和X射線熒光屏(摻N/B)等。CVD 金剛石光學性質的應用。金剛石在從紫外到遠紅外的很長波長范圍內有很高的光譜通過性能。加上金剛的機械、熱學性質,使金剛石薄膜成為可在惡劣環境中使用的*的光學窗口材料。 基本參數: 摻氮適用于高通量光束(1013-1015 photons/s) 摻硼適用于低通量光束,1010-1012 photons/s 應用案例: X射線熒光屏 X射線窗口 X射線源透射靶類型 單晶 / 多晶金剛石 級別 力學級、熱學級、光學級、電子學級、納米晶 典型尺寸 多晶:可在φ120mm的晶圓上切割任意尺寸;單晶:大尺寸為7mm*7mm 標準厚度 0.01-2mm 表面處理 Ra<10nm (多晶) Ra<3nm (單晶) 摻雜
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