激光散射法是測(cè)定熱物性的*佳方法：
激光散射法導(dǎo)熱系數(shù)儀主要技術(shù)參數(shù)：
LFA 467 HyperFlash® - 技術(shù)參數(shù)
? 溫度范圍：-100°C ... 500°C，單一爐體
? 非接觸式測(cè)量，IR 檢測(cè)器檢測(cè)樣品上表面升溫過程
? 數(shù)據(jù)采集速率：高達(dá) 2MHz（包括半升溫信號(hào)檢測(cè)，及 pulse mapping 技術(shù)）-- 對(duì)于高導(dǎo)熱及薄膜樣品，采樣時(shí)間（約為半升溫時(shí)間 10 倍）可低至 1ms，樣品厚度*薄可至 0.01 mm 以下（取決于具體的導(dǎo)熱系數(shù)）
? 熱擴(kuò)散系數(shù)測(cè)量范圍：0.01 mm2/s ... 2000 mm2/s
? 導(dǎo)熱系數(shù)測(cè)量范圍：< 0.1 W/(mK) ... 4000 W/(mK)
? 樣品尺寸：
- 直徑 6 mm ... 25.4 mm（包括方形樣品）
- 厚度 0.01 mm ... 6 mm（樣品的厚度要求取決于不同樣品的導(dǎo)熱性能）
? 16 個(gè)樣品位的自動(dòng)進(jìn)樣器
? 20 多種支架類型
? 豐富的測(cè)量模式，適應(yīng)各種類型的樣品。如各向異性材料，多層模式分析，薄膜，纖維，液體，膏狀物，粉末，熔融金屬，壓力下的測(cè)試，等等。
? Zoom Optics 優(yōu)化檢測(cè)器的檢測(cè)范圍（磚利技術(shù)）
? 磚利保護(hù)的 pulse mapping 技術(shù)（US 7038209, US , DE – approximation of the pulse），用于脈沖寬度修正，可以提高比熱值的測(cè)量精度
? 氣氛：惰性、氧化性、靜態(tài)/動(dòng)態(tài)、負(fù)壓
? 遵從如下標(biāo)準(zhǔn): ASTM E1461, ASTM E2585, DIN EN 821-2, DIN 30905, ISO 22007-4, ISO 18755, ISO 13826; DIN EN 1159-2, 等.
LFA 467 HT HyperFlash® - 技術(shù)參數(shù)
? 溫度范圍：RT ... > 1250°C，單一爐體
? *大升溫速率：50 K/min
? 紅外檢測(cè)器：InSb（RT ... >1250°C，可配備液氮自動(dòng)充填設(shè)備）
? 數(shù)據(jù)采集速率：*大 2 MHz（同時(shí)適用于紅外檢測(cè)器與 pulse mapping 通道）
? 熱擴(kuò)散系數(shù)范圍：0.01 mm2/s ... 2000 mm2/s
? 導(dǎo)熱系數(shù)：< 0.1 W/(m*K) ... 4000 W/(m*K)
? 磚利的 pulse mapping 技術(shù)：用于有限脈沖修正，以及提高比熱測(cè)量精度
? 氣氛：惰性，氧化性，靜態(tài)與動(dòng)態(tài)
? 真空：10-4 mbar
? 樣品支架：適合圓形與方形樣品
? 氣氛控制：MFC 與 AutoVac
