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生產型等離子清洗機TETRA 150

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生產型等離子清洗機TETRA 150 產品說明: 150L的生產型等離子清洗機TETRA 150可滿足不同的生產需求,可組成和不同的生產模塊系統,接受客戶定制。 應用領域: 主要應用領域有:考古 汽車 生物技術 彈性體技術 電子技術 電子顯微鏡 精密工程 研究和開發 半導體技術 小批量生產 塑料技術 醫療技術 微系統技術 太陽能電池技術 紡織技術 。 在線咨詢

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    設備:生產型等離子清洗機TETRA 150
    銷售:
    產品功能:

    清洗: 工藝部件的表面通過離子束的物理轟擊而被清洗,也可與特定氣體發生化學反應從而被清洗,清洗掉的工藝污染物轉化為氣相被排出。如:去除有機污染物,去除納米級微粒,去除氧化層。

    活化:工藝部件表面通過氧氣或空氣處理后,會在表面形成氧原子團,這樣能使部件表面親水性和表面張力提高,能使涂料和粘接劑更好的附著于上,提高其的粘合力和附著力。
    如:PDMS鍵合,粘接前的預處理,涂裝前的預處理,印刷前的預處理。

    蝕刻:工藝部件表面通過特定氣體達到精確濺射,表面材料被剝離,轉變成氣相被排出,濺射后的材料表面積增大并更易濕潤,也使材料表面更粗糙化。通過改變工藝參數可使材料表面蝕刻出一定的形狀。如:硅蝕刻,PTFE/PFA/FEP蝕刻,光刻膠去除。


    涂層:使工藝部件表面發生等離子聚合反應,前驅單體導入等離子真空腔室后使其電離并沉積至材料表面,隨即發生聚合反應,形成聚合物層。如:疏水層,親水層,保護/阻隔層,干潤滑層,疏油層。

     

     

    主要技術參數 1. 便捷的FULL PC觸摸屏控制系統
    2. 根據工藝要求不同,可設定功率、壓強、氣體流量與時間等參數
    3.  三路工作氣體(可通多種氣體O2、N2,Ar),氣體流量通過數字式流量計(MFC)控制
    4. *反應艙為不銹鋼制,L400xD625xH600mm ,容積為150L
    5. 反應艙門鋁制,帶有玻璃觀察窗
    6.    樣品托盤:十層,W340*D580mm/層
    7. 配有Pirani壓力計,實時數字顯示反應艙的壓力值
    8. 高周波電流頻率13.56MHz功率0~600W (或者0~1000W)
    9. 反射波自動調節,無須手工調節
    10. 電極材質為鋁/不銹鋼
    11. 真空泵為Leybold D65B LVO 100,排氣速度65m3/hour,配有氧氣強制進氣閥
    12. 配有壓力傳感器,可根據工藝要求設定壓力值
    13. 600mm(L)*800mm(D)*1700mm(H)(含電源線突出部分)
    14. 電源電壓:三項AC400V 32A

    選配:
    控制系統: PCCE全自動控制/PC全自動控制。

     
    氣體:
    多路氣體
     
    腔體:
    矩形不銹鋼,帶鉸鏈的門(約寬 400 mm x 高 600 mm x 深 625 mm)矩形鋁制腔室(約寬 400 mm x 高 600 mm x 深 625 mm)     托盤:石英玻璃舟皿/粉末轉鼓/散裝件轉鼓/鋁板/不銹鋼板/硼硅玻璃/石英/水冷型
     
    電極:
    單層或多層/帶氣體噴淋裝置的 RIE 電極
     
    壓力測量:
    Pirani/電容式壓力計 (適用于腐蝕性氣體版本)
     
    發生器:
    80 kHz:0- 1000 / 3000 W 13.56 MHz: 0 - 300 W/600 W/ 1000 W 2.45 GHz: 0 - 1200 W
     
    其他:
    ......


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