生產型等離子清洗機 TETRA 30 產品說明： 34L——57L生產型等離子清洗機TETRA30可以組合成不同的模塊系統，能滿足生產企業需求，也能夠按照客戶要求進行定制。 應用領域： 主要應用領域有：分析 (REM TEM)、考古、汽車、生物技術、 彈性體技術、電子技術、電子顯微鏡、精密工程、研究和開發、半導體技術 、小批量生產、塑料技術、醫療技術、 微系統技術 、太陽能電池技術、紡織技術 在線咨詢
清洗：工藝部件的表面通過離子束的物理轟擊而被清洗，也可與特定氣體發生化學反應從而被清洗，清洗掉的工藝污染物轉化為氣相被排出。 如：去除有機污染物，去除納米級微粒，去除氧化層
活化：工藝部件表面通過氧氣或空氣處理后，會在表面形成氧原子團，這樣能使部件表面親水性和表面張力提高，能使涂料和粘接劑更好的附著于上，提高其的粘合力和附著力。如：PDMS鍵合，粘接前的預處理，涂裝前的預處理，印刷前的預處理。
蝕刻：工藝部件表面通過特定氣體達到精確濺射，表面材料被剝離，轉變成氣相被排出，濺射后的材料表面積增大并更易濕潤，也使材料表面更粗糙化。通過改變工藝參數可使材料表面蝕刻出一定的形狀。如：硅蝕刻，PTFE/PFA/FEP蝕刻，光刻膠去除。
涂層：使工藝部件表面發生等離子聚合反應，前驅單體導入等離子真空腔室后使其電離并沉積至材料表面，隨即發生聚合反應，形成聚合物層。疏水層，親水層，保護/阻隔層，干潤滑層，疏油層
| 主要技術參數 | 1. 便捷的PC觸摸屏控制，操作系統為Windows CE5.0(ARM) 2. *根據工藝要求不同，可設定功率、壓強、氣體流量與時間等參數 3. 雙路工作氣體，氣體流量通過數字式流量計（MFC）控制 4. *反應艙為不銹鋼，寬305mm ×深625 mm×高300 mm ，容積約為50L 5. 高周波電流頻率13.56MHz功率0~300W 6. 反射波自動調節，無須手工調節 7. 電極材質為鋁/不銹鋼 8. 運行模式為手動/自動 9. *可存儲多套工藝程序，圖表實時顯示工藝過程 10. 真空泵的排氣能力為16m3/Hour，配有強制進氣閥 11. *配有壓力傳感器，可根據工藝要求設定壓力值 12. 電源電壓：400V /16A |
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