ONH-2000氧氮?dú)浞治鰞x采用惰性氣體融合技術(shù),將樣品在脈沖爐中加熱超過(guò)3000℃。典型樣品如銅、鋼、鑄鐵、合金及陶瓷和其它無(wú)機(jī)材料。可用于工程/電子, 鋼鐵/ 冶金, 陶瓷等應(yīng)用領(lǐng)域。
ONH-2000采用惰性氣體融合技術(shù),將樣品在脈沖爐中加熱超過(guò)3000℃。典型樣品如銅、鋼、鑄鐵、合金及陶瓷和其它無(wú)機(jī)材料。可用于工程/電子, 鋼鐵/ 冶金, 陶瓷等應(yīng)用領(lǐng)域。
ONH-2000氧氮?dú)浞治鰞x參數(shù):
1. 分析范圍
1g樣品:氧氮部分: 低氧:0.1ppm~200ppm* 高氧:10ppm~2.0%*
低氮:0.1ppm~200ppm* 高氮:10ppm~2.0%*
1g樣品:氧氫部分: 低氧:0.1ppm~200ppm* 高氧:10ppm~2.0%*
低氫:0.01ppm~50ppm* 高氫:20ppm~1000ppm*
注:*改變稱樣量可改變測(cè)量范圍,zui高可達(dá)100%。
2. 分析精度
氧氮部分: 低氧:±0.1ppm或±1% 高氧:±2ppm或±1%
低氮:±0.1ppm或±1% 高氮:±2ppm或±1%
氧氫部分: 低氧:±0.1ppm或±1% 高氧:±2ppm或±1%
低氫:±0.05ppm或±1% 高氫:±0.5ppm或±1%
3. 靈敏度: 0.01ppm
4. 樣品稱重: 一般稱重1.0g
5. 性能指標(biāo):
分析元素 | 氫, 氮, 氧 |
樣品 | 無(wú)機(jī)物 |
爐子校準(zhǔn) | 垂直 |
載樣 | 石墨坩堝 |
應(yīng)用領(lǐng)域 | 工程/電子, 鋼鐵/ 冶金, 陶瓷 |
爐子 | 電極脈沖爐 (max. 8 KW), 溫度超過(guò)3000 °C |
檢測(cè)方式 | 氧采用固態(tài)紅外吸收法、氮和氫的熱導(dǎo)法 |
典型分析時(shí)間 | 120 - 180 s |
化學(xué)品 | 氫氧化鈉, 氧化銅, 高氯酸鎂 |
載氣 | 壓縮空氣 (4 - 6 bar / 60 - 90 psi) 99.995 % 純氦 (2 - 4 bar / 30 - 60 psi) |
所需功率 | 3~ 400 V, 50/60 Hz, max. 8500 W |
尺寸 (寬 x 高 x 縱深) | 55 x 80 x 60 cm |
重量 | ~ 140 kg |
所需設(shè)備 | 顯示屏, 天平 (精度 0.0001g), PC |
選配件 | 穩(wěn)壓器5 KVA, 載氣凈化, 氣標(biāo)校準(zhǔn)裝置 |
ONH-2000氧氮?dú)浞治鰞x特點(diǎn):
1. ONH-2000可以提供兩個(gè)不同長(zhǎng)度的紅外檢測(cè)池,適于不同水平的氧元素分析。通過(guò)穩(wěn)固和靈敏的熱傳導(dǎo)計(jì)測(cè)量氮和氫的含量。
2. 優(yōu)點(diǎn):
- 采用惰性氣體熔融技術(shù),同時(shí)進(jìn)行氧/氮或氧/氫的測(cè)定
- 靈活的配置用于測(cè)定氧、氮、氫
- 包括加溫和組分分析
- 較低的高靈敏度紅外和TC檢測(cè)池的限制
- 分析時(shí)間短
- 強(qiáng)勁的8 kW脈沖爐溫度可超過(guò)3000°C
- 分析谷物無(wú)需膠囊
- 上電極插入式,易于更換,更經(jīng)濟(jì)
- 分析快速、精準(zhǔn)、可靠
- 軟件功能強(qiáng)大 (多語(yǔ)言,可定制顯示,輸出的結(jié)果)
- 單點(diǎn)、多點(diǎn)校正
- 無(wú)需保養(yǎng)
- 構(gòu)造結(jié)實(shí),可用于實(shí)驗(yàn)室和生產(chǎn)控制
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