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HUD 已經成為一種常見的汽車配置與功能, 通過它來直觀顯示速度、發動機轉速或其他懸停在駕駛員視野中的信息, 減少因低頭查看儀表盤而造成的分心, 提升駕駛安全. 目前量產的車用抬頭顯示 HUD 正在從風擋型 W-HUD 逐漸向增強現實型的 AR-HUD 發展：從單純的信息展示屏幕, 變成了具有在實際路況位置產生警示符號的增強現實(AR) 效果.
W-HUD/AR-HUD 一直都依賴光學凹面鏡成像原理實現距離與視覺尺寸的放大, AR-HUD大的技術挑戰在于:高放大倍率所衍生的高倍率畸變差暈眩問題與太陽光倒灌燒毀光機的問題. 要使用越小的體積產生同樣的長虛像距離 (VID) 距離, 放大倍率就得越大. 放大倍率越大, 陽光倒灌與暈畸變差眩就越嚴重. 防陽光倒灌濾光片可通過 RGB 窄帶濾光片來實現. 濾光片可實現可見光波段的高透過率, 同時截止近紅外和紫外波段, 獲得高的亮度測量靈敏度和動態范圍.
KRi 離子源應用于車載AR-HUD 鍍膜
上海伯東某客戶使用自主研發的鍍膜設備, 配備美國 KRI 射頻離子源輔助鍍膜通過測驗, 得到具有高透過率、高匹配精度、膜層致密度和牢固度優質, 高低溫變化波長不漂移, 惡劣環境下耐久性良好的 RGB 窄帶濾光片, 上海伯東為車載AR-HUD TFT 防陽光倒灌提供了優質鍍膜解決方案.
上海伯東美國 KRi 射頻離子源 RFICP 系列, 無需燈絲提供高能量, 低濃度的離子束, 通過柵極控制離子束的能量和方向, 單次工藝時間更長! 射頻源 RFICP 系列提供完整的系列, 包含離子源本體, 電子供應器, 中和器, 自動控制器等. 射頻離子源適合多層膜的制備, 離子濺鍍鍍膜和離子蝕刻, 改善靶材的致密性, 光透射, 均勻性, 附著力等.
射頻離子源 RFICP 系列技術參數:
型號 | RFICP 40 | RFICP 100 | RFICP 140 | RFICP 220 | RFICP 380 |
Discharge 陽極 | RF 射頻 | RF 射頻 | RF 射頻 | RF 射頻 | RF 射頻 |
離子束流 | >100 mA | >350 mA | >600 mA | >800 mA | >1500 mA |
離子動能 | 100-1200 V | 100-1200 V | 100-1200 V | 100-1200 V | 100-1200 V |
柵極直徑 | 4 cm Φ | 10 cm Φ | 14 cm Φ | 22 cm Φ | 38 cm Φ |
離子束 | 聚焦, 平行, 散射 | ||||
流量 | 3-10 sccm | 5-30 sccm | 5-30 sccm | 10-40 sccm | 15-50 sccm |
通氣 | Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 | ||||
典型壓力 | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr |
長度 | 12.7 cm | 23.5 cm | 24.6 cm | 30 cm | 39 cm |
直徑 | 13.5 cm | 19.1 cm | 24.6 cm | 41 cm | 59 cm |
中和器 | LFN 2000 | ||||
上海伯東同時提供真空系統所需的渦輪分子泵, 真空規, 高真空插板閥等產品, 協助客戶生產研發高質量的真空系統.
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展已取得多項專. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域.
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2025廣州國際分析測試及實驗室設備展覽會暨技術研討會
展會城市：廣州市展會時間：2025-03-05