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去離子水設備EDI工藝調試注意事項

來源:北京惠康環(huán)保科技有限公司   2014年12月13日 12:42  

去離子水設備EDI工藝調試注意事項:

1、首先檢查管路及閥組件安裝是否準確,電器控制是否符合設計要求;

2、用合格的進水(一般為二級RO產水)充分清洗管路,清洗時EDI膜堆要脫離管路;   

3、給膜堆淡水及濃水室緩慢進水,注意2個確保(一是淡水進壓大于濃水進壓,二是產水壓力大于濃排壓力);

4、各通道流量、壓力調節(jié)到設計參數后,啟動EDI電源,緩慢調節(jié)升高電流至對應膜堆的技術參數;

5、剛開始調試運行的產水排放,不要進純水箱;

6、調試自動狀態(tài)的運行情況,一是液位控制是否正常,二是流量限位是否正常,三是其他關聯(lián)控制是否正常;

7、在設備運行中,①壓力控制在一定范圍內,避免擊穿隔層膜片,否則得到生產廠家維修。②確保濃水排放的流量,要設置限流開關保護。③ 膜堆電流控制一定范圍。

 

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