【儀器網(wǎng) 使用手冊(cè)】近年來(lái),二次離子質(zhì)譜這一前沿的分析技術(shù)越來(lái)越多地被用在了科學(xué)研究當(dāng)中,應(yīng)用范圍較為廣泛。然而,依然有很多小白對(duì)二次離子質(zhì)譜的基本結(jié)構(gòu)不太了解。那么二次離子質(zhì)譜的組成結(jié)構(gòu)是怎樣的呢?都有哪些功能和特點(diǎn)?今天小編就來(lái)簡(jiǎn)單盤點(diǎn)一下。
二次離子質(zhì)譜主要由三部分組成:一次離子發(fā)射系統(tǒng)、質(zhì)譜儀、二次離子的記錄和顯示系統(tǒng)。前兩者處于壓強(qiáng)〈10-7Pa的真空室內(nèi)。
①一次離子發(fā)射系統(tǒng)
一次離子發(fā)射系統(tǒng)由離子源(或稱離子槍)和透鏡組成。離子源是發(fā)射一次離子的裝置,通常是用幾百伏特的電子束轟擊氣體分子(如惰性氣體氦、氖、氬等),使氣體分子電離,產(chǎn)生一次離子。在電壓作用下,離子從離子槍內(nèi)射出,再經(jīng)過(guò)幾個(gè)電磁透鏡使離子束聚焦,照射在樣品表面上激發(fā)二次離子。用一個(gè)電壓約為1KV的引出電極將二次離子引入質(zhì)譜儀。SIMS的一次離子源分為氣體放電源(O2+、O-、N2+、Ar+)、表面電離源(Cs+、Rb+)和液態(tài)金屬場(chǎng)離子發(fā)射源(Ga+、In+)等。
②質(zhì)譜儀
質(zhì)譜儀由扇形電場(chǎng)和扇形磁場(chǎng)組成。二次離子首*入一個(gè)扇形電場(chǎng),稱為靜電分析器。在電場(chǎng)內(nèi),離子沿半徑為r的圓形軌道運(yùn)動(dòng),由電場(chǎng)產(chǎn)生的力等于向心力。
運(yùn)動(dòng)軌道半徑r等于mv2/eE,與離子的能量成正比。所以扇形電場(chǎng)能使能量相同的離子作相同程度的偏轉(zhuǎn)。由電場(chǎng)偏轉(zhuǎn)后的二次離子再進(jìn)入扇形磁場(chǎng)(磁分析器)進(jìn)行第二次聚焦。由磁通產(chǎn)生的洛侖茲力等于向心力。
不同質(zhì)荷比的離子聚焦在成像面的不同點(diǎn)上。如果C狹縫固定不動(dòng),聯(lián)系改變扇形磁場(chǎng)的強(qiáng)度,便有不同質(zhì)量的離子通過(guò)C狹縫進(jìn)入探測(cè)器。B狹縫稱為能量狹縫,改變狹縫的寬度可選擇不同能量的二次離子進(jìn)入磁場(chǎng)。
③ 離子探測(cè)系統(tǒng)
離子探測(cè)器是二次電子倍增管,內(nèi)是彎曲的電極,各電極之間施加100-300V的電壓,以便逐級(jí)加速電子。二次離子通過(guò)質(zhì)譜儀后直接與電子倍增管的初級(jí)電極相碰撞,產(chǎn)生二次電子發(fā)射。二次電子被第二級(jí)電極吸引并加速,在其上轟擊出更多的二次電子,這樣逐級(jí)倍增,后進(jìn)入記錄和觀察系統(tǒng)。
二次離子的記錄和觀察系統(tǒng)與電子探針相似,可在陰極射線管上顯示二次離子像,給出某元素的面分布圖,或在記錄儀上畫出所有元素的二次離子質(zhì)譜圖。
免責(zé)聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來(lái)源:儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來(lái)源:儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來(lái)源(非儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)和對(duì)其真實(shí)性負(fù)責(zé),不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個(gè)人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時(shí),必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來(lái)源,并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問(wèn)題,請(qǐng)?jiān)谧髌钒l(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。
2025廣州國(guó)際分析測(cè)試及實(shí)驗(yàn)室設(shè)備展覽會(huì)暨技術(shù)研討會(huì)
展會(huì)城市:廣州市展會(huì)時(shí)間:2025-03-05