Nanotrac Wave納米粒度儀的儀器簡介：
納米粒度測量——動態光背散射技術
隨著顆粒粒徑的減小，例如分子級別的大小，顆粒對光的散射效率急劇降低，使得經典動態光散射技術的自相關檢測（PCS）變得更加不確定。40多年來，Microtrac公司一直致力于激光散射技術在顆粒粒度測量中的應用。作為行業的先鋒，早在1990年，超細顆粒分析儀器 UPA（Ultrafine Particle Analyzer）研發成功，*引入由于顆粒在懸浮體系中的布朗運動而產生頻率變化的能譜概念，快速準確地得到被測體系的納米粒度分布。2001年，利用背散射（Back-scattered）和異相多譜勒頻移（Heterodyne Doppler Frequency Shifts）技術，結合動態光散射理論和*的數學處理模型，將分析范圍延伸至0.8nm-6.5μm,樣品濃度更可高達百分之四十，基本實現樣品的原位檢測。異相多普勒頻移技術采用可控參考穩定頻率，直接比照因顆粒的布朗運動而產生的頻率漂移，綜合考慮被測體系的實時溫度和粘度，較之于傳統的自相關技術，信號強度高出幾個數量級。另外，新型“Y”型梯度光纖探針的使用，實現了對樣品的直接測量，*的減少了背景噪音，提高了儀器的分辨率。

Nanotrac Wave納米粒度儀的主要技術特點：

• 采用的動態光散射技術，引入能普概念代替傳統光子相關光譜法
• 的異相多譜勒頻移技術，較之傳統的方法，獲得光信號強度高出幾個數量級，提高分析結果的可靠性。
• 的可控參比方法（CRM），能精細分析多譜勒頻移產生的能譜，確保分析的靈敏度。
• 超短的顆粒在懸浮液中的散射光程設計，減少了多重散射現象的干擾，保證高濃度溶液中納米顆粒測試的準確性。
• 的快速傅利葉變換算法（FFT，Fast Fourier Transform Algorithm Method）,迅速處理檢測系統獲得的能譜，縮短分析時間。
• 消除多種空間位阻對散射光信號的干擾，諸如光路中不同光學元器件間傳輸的損失，樣品池位置不同帶來的誤差，比色皿器壁的折射與污染，分散介質的影響，多重散射的衰減等，提高靈敏度