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簡介：日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHIIonMillingSystemIM4000）具有斷面加工和平面研磨功能的混合儀器！日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHIIonMilli...

簡介：日立ArBlade5000離子研磨系統能夠實現高產量，并制備廣域橫截面樣品。離子研磨系統使用通過在表面上照射氬離子束引起的濺射效應來拋光樣品的表面。樣品預處理系統可以用于電子和材料等各個領域的研發...

簡介：1)支持超大/超重樣品測試可搭載的樣品尺寸：“SU3800”標配可搭載直徑200mm樣品的樣品倉，可應對高度為80mm、重量為2kg的樣品。“SU3900”作為日立的大型掃描電鏡，標配可搭載直徑3...

簡介：臺式掃描電子顯微鏡(SEM)全新升級。我們以“更高畫質、更易于使用、更易于觀察”為理念，開發出TM4000系列。在此基礎上，我們又推出功能更為多樣的TM4000Ⅱ系列。為您提供全新的觀察和分析應用...

簡介：FlexSEM1000II，憑借全新設計的電子光學系統和高靈敏度檢測器，可在加速電壓20kV下實現4.0nm的分辨率。全新開發的用戶界面，具有亮度和對焦自動調節功能，可以在短時間內進行各種觀察。此...

簡介：

簡介：核心理念采用優異的成像技術SU7000可以迅速獲取從大視野全貌圖到表面微細結構等多種檢測信號。全新設計的電子光學系統和檢測系統，使得裝置可以同時接收二次電子和背散射電子等信號，用戶可以在短時間內獲...

簡介：沿用"SU8200系列"的冷場發射電子槍*2采用電子束在Flashing后出現的高亮度穩定區域作為穩定觀察的區間，使得低加速電壓條件下兼備高分辨觀察和分析的性能(Regulus8240/8230/...

簡介：SEM5000是一款分辨率高、功能豐富的場發射掃描電子顯微鏡。的鏡筒設計，高壓隧道技術（SuperTunnel）、低像差無漏磁物鏡設計，實現了低電壓高分辨率成像，同時磁性樣品可適用。光學導航、完善...

簡介：SEM4000Pro是一款分析型熱場發射掃描電子顯微鏡，配備了高亮度、長壽命的肖特基場發射電子槍。三級磁透鏡設計，束流可達200nA，在EDS、EBSD、WDS等應用上具有明顯優勢。標配低真空模式...