NICOMP 380 系列納米粒徑與電位分析儀是專門用于測量納米級顆粒以及膠體樣品體系的先進粒徑分析儀器，其測量范圍為 0.3 nm - 10 μm。儀器所擁有*的基線調整自動補償能力和高分辨率多模式算法，多年來不同領域的使用證明了它可以區分開單峰樣本體系和無約束復雜多峰樣本體系，是研發的較佳助手！

　　Nicomp 380 系列納米粒徑與電位分析儀 是專門用于測量納米級顆粒以及膠體樣品體系的先進粒度分析儀器，其測量范圍為 0.3 nm - 10 μm。儀器所擁有*的基線調整自動補償能力和高分辨率多模式算法，多年來不同領域的使用證明了它可以區分開單峰樣本體系和無約束復雜多峰樣本體系，是研發的較佳選擇！Nicomp 380系列儀器是*在應用動態光散射技術上的基礎上加入多模塊方法的先進粒度儀。可搭載自動進樣系統、自動稀釋系統、多角度探測及高濃度背光散射和在線監測等模塊，隨著模塊的升級和增加， Nicomp 380 可以更快更準確的用于各種復雜樣品的檢測分析。

　　納米粒徑與電位分析儀工作原理：動態光散射

　　技術優勢：

　　· 符合美國USP729檢測項目I和符合中國藥典版的推薦方法;

　　· 的Nicomp多峰算法和傳統高斯單峰算法相結合，為復雜體系提供更準確的實驗數據；

　　· 的自動稀釋模塊；

　　帶有的自動稀釋模塊消除了人工稀釋高濃度樣品帶來的誤差，大大縮短了使用者測試的寶貴時間，測試結果重現性好，誤差率＜1%；

　　· 精確度高，重現性好;

　　· 可選配超高分辨率檢測模塊；

　　· 模塊化設計便于維護和升級；

　　· 特為多組分不均勻體系設計；

　　· 可搭載自動進樣系統；

　　· *的樣品池設計，可消除樣品的交叉污染；

　　· 快速檢測，可追溯歷史數據；

　　· 并且能提供多種類的數據展現形式，Nicomp分布以粒子粒徑大小，數量和體積的形式分布呈現

　　· Zeta電勢電位測定：Nicomp Z3000結合了動態光散射技術（DLS）和電泳光散射法（ELS），實現了同機測試亞微米粒子分布和ZETA電勢電位。ELS 是將電泳和光散射結合起來的一種新型光散射，它的光散射理論基礎是準彈性碰撞理論，在實驗時通過在樣品槽中外加一個外電場，帶電粒子即會以固定速度向與帶電粒子電性相反的電極方向移動，與之相應的動態光散射光譜產生多普勒漂移，這一漂移正比于帶電粒子的移動速度，因此由實驗測得的譜線的漂移，就可以求得帶電粒子的電泳速度，從而得到ζ-電位值。通過測試顆粒之間排斥力 ，判斷體系穩定性的測量手段之一。并且配備靶電極，經久耐用；

     應用領域：

· 醫藥領域：乳劑，注射劑，脂質體，膠體，混懸劑，滴眼液，高分子，病毒，疫苗等；

· 半導體： CMP Slurry，芯片，晶圓加工等

· 特殊化工品：墨水&噴墨，納米材料，化工染料，潤滑劑，清洗劑等。

• 其他：過濾產品，清潔度方面，食品飲料，化妝品等