氨逃逸（二氧化硫，氮氧化物，氨氣）一體機
脫硝氨逃逸一體化在線監測系統（GA-5000NAO型）包括預處理系統、氣體分析儀和數據處理與顯示三大部分。系統取樣方式為在位式高溫伴熱抽取

氨逃逸（二氧化硫，氮氧化物，氨氣）一體機

型號：GA-5000NAO

簡介

脫硝氨逃逸一體化在線監測系統（GA-5000NAO型）包括預處理系統、氣體分析儀和數據處理與顯示三大部分。系統取樣方式為在位式高溫伴熱抽取。本系統基本原理是基于紫外差分吸收光譜（DOAS）技術及可調諧半導體激光吸收光譜（TDLAS）技術；紫外差分吸收光譜技術原理為，同種氣體在不同光譜波段有不同的吸收，不同氣體在同一光譜波段的吸收疊加作用，通過對連續光譜做算法分析，可同時測量多種氣體，有效避免各組分相互干擾；激光光譜氣體分析技術已經廣泛應用到對于靈敏度、響應時間、背景氣體免干擾等有較高要求的各種氣體監測領域。本公司生產的脫硝氨逃逸一體化在線監測系統（GA-5000NAO型）耐用且易于安裝，特別適用于眾多環保及工業過程氣體排放監測，包括燃煤發電廠、鋁廠、鋼鐵廠、冶煉廠、垃圾發電站、水泥廠和化工廠等。

特 點

 屬上同時分析NH3/NOx/O2三個組分的脫硝分析系統，集成度高；

        無伴熱管線、冷凝器和隔膜泵等易損部件，系統中無任何運動部件，可靠性高、響應時間短；

        整個氣體流路200°C高溫伴熱，避免銨鹽結晶堵塞過濾器和管道、以及污染分析儀氣體室，免維護周期長；

        氨逃逸（二氧化硫，氮氧化物，氨氣）一體機采用高溫抽取采樣測量NH3，與原位法相比，具有不受煙道內粉塵、溫度、壓力波動的影響，可實現在線校準等優勢。

氨逃逸（二氧化硫，氮氧化物，氨氣）一體機技術參數

       測量方法：激光吸收光譜（TDLAS）+紫外差分（DOAS）＋ 氧化鋯

         測量組分及量程： NH3：0-10ppm（MIN）~0-*（MAX）； NOX：0-50ppm（MIN）~0-*（MAX）； 

                                          O2：0-25%（MIN）~0-*（MAX）

         示值誤差：±2%F.S

         重復性：±2%F.S

         響應時間：≤90s

         零點漂移：2%F.S./7d

         量程漂移：2%F.S./7d

         防護等級：IP65

         模擬接口：4路4-20mA輸出(可配置，大帶載能力＜800歐)，2路4-20mA輸入(可靈活配置，100歐負載)

         繼電器輸出：14路，可配置，DC30V2A

         開關量輸入：6路，可靈活配置

         通訊接口：1路RS232，1路RS485，支持Modbus協議

         電源：220±15%VAC／2KW

         樣氣流速：1.5±0.1L/min

         環境溫度：－20oC～50oC

         環境濕度：0%～95%RH