Gatan PECS II 685 精密刻蝕鍍膜系統-電鏡制樣設備
采用兩個寬束氬離子束對樣品表面進行拋光，去除損失層，從而得到高質量的樣品，用于在SEM、光鏡或者掃描電子探針上進行成像、EDS，EBSD，CL，EBIC或者其他分析，另外將這兩支離子槍對準靶材濺射，可用來對樣品做導電金屬膜沉積處理，以防止樣品在電鏡中發生荷電效應。

Gatan PECS II 685 精密刻蝕鍍膜系統-電鏡制樣設備

產品介紹

 產品功能介紹

Gatan公司的精密刻蝕鍍膜儀 (PECS™) II 是一款桌面型寬束氬離子拋光及鍍膜設備。對于同一個樣品，可在同一真空環境下完成拋光及鍍膜。

品牌介紹

美國Gatan公司成立于1964年并于70年代末進入中國市場。Gatan公司以其產品的高性能及技術的*性在電鏡界享有*聲譽。

作為世界領前的設計和制造用于增強和拓展電子顯微鏡功能的附件廠商，其產品涵蓋了從樣品制備到成像、分析等所有步驟的需求。產品應用范圍包括材料科學、生命科學、地球物理學、電子學，能源科學等領域， 客戶范圍涵蓋的科研院所，高校，各類檢測機構及大型工業企業實驗室，并且在科學研究領域得到了廣泛認同。

經銷商介紹

歐波同有限公司是中國領前的微納米技術服務供應商，是一家以外資企業作為投資背景的*，總部位于香港，分別在北京、上海、遼寧、山東等地設有分公司和辦事處。作為蔡司電子顯微鏡、Gatan掃描電子顯微鏡制樣設備及附屬分析設備在中國地區重要的戰略合作伙伴，公司秉承“打造國內具影響力的儀器銷售品牌”的經營理念，與蔡司，Gatan品牌強強聯合，正在為數以萬計的中國用戶提供高品質的產品與技術服務。

產品主要技術特點：

精密刻蝕鍍膜儀 (PECS™) II，采用兩個寬束氬離子束對樣品表面進行拋光，去除損失層，從而得到高質量的樣品，用于在SEM、光鏡或者掃描電子探針上進行成像、EDS，EBSD，CL，EBIC或者其他分析，另外將這兩支離子槍對準靶材濺射，可用來對樣品做導電金屬膜沉積處理，以防止樣品在電鏡中發生荷電效應。

這款儀器被設計為不破壞真空，不將樣品新鮮表面暴露在大氣中，即可對拋光樣品進行處理。樣品的裝卸是通過一個專門設計的裝樣工具在真空交換艙中完成。

兩支具有更大電壓范圍的小型潘寧離子槍，可提供快速柔和的拋光效果。低至100eV的離子束提供更柔和的拋削效果，用于樣品的拋光。低能聚焦電極使得離子束的直徑在幾乎整個加速電壓范圍內都保持一致。每個離子槍都能準確獨立地進行對中。在儀器運行過程中，離子槍的角度可隨時進行調整。離子槍的氣流可在觸摸屏上通過手動方式或者自動方式進行調整， 用于優化離子槍的工作電流。

PECS II樣品臺采用液氮制冷方式。可以有效的保護樣品，避免離子束熱損傷，消除可能的假象。

集成的10英寸彩色觸摸屏計算機可對PECS II系統的所有操作參數進行*控制。此界面不僅可以設定所有參數并能夠監控拋光過程。所有的操作參數還可以存為配方，調用配方可獲得高精度重復實驗。

渦輪分子泵搭配兩級隔膜泵保證了超潔凈環境。通過Gatan的樣品裝卸工具能實現快速樣品交換（< 1min），這樣就能保證換樣過程中加工艙室始終處在高真空狀態。

Gatan PECS II 685 精密刻蝕鍍膜系統-電鏡制樣設備主要技術參數：

離子源

*離子槍兩支配有稀土磁鐵的潘寧離子槍，高性能無耗材

*拋光角度±10°, 每支離子槍可獨立調節

離子束能量100 eV 到 8.0 keV

離子束流密度10 mA/cm2 峰值

離子束直徑可用氣體流量計或放電電壓來調節

樣品臺

樣品大小：大直徑 32mm， 大高度 15mm

樣品裝載： 對于截面樣品拋光采用 Ilion™ II 專項的樣品擋板，二次再加工位置精確。

樣品拋光及鍍膜功能：兼具有平面拋光、截面拋光及濺射鍍膜功能，靶材數：2個

靶材切換：無需破壞真空，可直接切換

樣品旋轉：1 到 6 rpm 可調

束流調制：角度可調的單束調制或雙束調制

真空系統

干泵系統80 L/s 的渦輪分子泵配有兩級隔膜泵

壓力5 x 10-6 torr 基本壓力

8 x 10-5 torr 工作壓力

真空規冷陰極型，用于主樣品室；固體型，用于前級機械泵

*樣品空氣鎖Whisperlok專項技術，無需破壞主樣品室真空即可裝卸樣品，樣品交換時間 < 1 min

用戶界面

*10 英寸觸摸屏操作簡單，且能夠*控制所有參數和配方式操作

*操作界面語言：提供中文、英文等多種選擇

產品主要應用領域：

EBSD樣品制備

截面樣品制備

金屬材料（合金，鍍層）

石油地質巖石礦物

光電材料

化工高分子材料

新能源電池材料