潔凈度100級、氧濃度低于20ppm的氣氛爐，主要應用于固化半導體晶圓等。 型號 DTN430C DTN630C DTN450C DTN650C 方式 氮氣置換+ 強制送風循環 性能 使用溫度范圍 室溫+50～360℃ 室溫+50～500℃ 溫度調節精度 ±0.5℃（at360℃） ±1.0℃（at500℃） 溫度分布精度 ±5.0℃（at360℃） ±8.0℃（at500℃） 溫度到達時間 約80分鐘 約110分鐘 氧濃度 20ppm 以下 氧濃度到達時間 ≤ 20分（250L/min 氮氣） ≤ 25分（250L/min 氮氣） ≤ 20分（250L/min 氮氣） ≤ 25分（250L/min 氮氣） 潔凈度 溫度恒定時100級 構成 內裝 不銹鋼板 外裝 冷軋鋼板，表面耐藥品性涂裝 斷熱材 硅酸鋁棉 加熱方式 不銹鋼加熱管 加熱功率 主加熱器 6.75KW 9KW 9.5KW 14.2KW N2預熱 1KW 冷卻機構 不銹鋼冷卻水換熱器 HEPA過濾器 集塵效率：0.3um粒子99.97%以上 控制器 溫度控制方式 PID控制 溫度控制器 液晶觸摸屏+PLC 運行功能 手動定值運行、自動程序運行 程序模式 程序運行9個，每個程序可設置9步（可擴展） 附加功能 操作員等級認證 加熱器回路控制 SSR驅動 傳感器 K型熱電偶（溫度控制及過升防止器） 安全裝置 門檢測開關、過升防止器、氧濃度異常、N2 預熱溫度過升、水壓低檢測、N2 壓力低檢測、冷卻水流量檢測、N2 流量檢測、 風機過載檢測、過電流漏電保護開關等 規格 內尺寸（寬×深×高mm） 450×450×450 660×500×660 450×450×450 660×500×660 外形尺寸（寬×深×高mm） 1090×950×1540 1300×1000×1750 1240×1010×1750 1450×1060×1960 內容積 91L 216L 91L 216L 棚板層數/層間距 12層/30mm 19層/30mm 12層/30mm 19層/30mm 排氣口 40KF法蘭 氮氣入口 Rc1/2 冷卻水入口 Rc3/4 熱水出口 Rc3/4，2個 電源（50/60Hz）額定電流 3相AC380V 16A 3相AC380V 19A 3相AC380V 20A 3相AC380V 27A 重量 約900kg 約1100kg 約900kg 約1100kg 選購品 棚板、真空泵、溫度記錄儀、組合警示燈（待機/ 運行/ 故障）、以太網通信功能
特點
● 工作溫度360℃和500℃、潔凈度100級、氧濃度低于20ppm，主要應用于固化半導體晶圓（光刻膠PI、PBO固化）、玻璃基板烘烤、高精度退火處理等。
● 采用耐熱高性能高效過濾器，箱內潔凈度始終保持在100級，可在潔凈的環境下進行高溫烘烤。
● 高氣密性的壓力箱構造，氧濃度到達時間短，N2消耗量極低。
● 通過磁密封保持高氣密性，并采用水冷機構保護密封部件免受熱量影響。
● 可實現快速升溫和降溫，升降溫速率可調節。
● 標準裝備有廢液回收裝置，對氣體進行冷卻回收。
● 液晶觸摸屏操作，自動/手動兩種運行模式。
安全性
● 擁有門檢測開關、溫度過升防止器、氧濃度異常、氮氣壓力檢測、氮氣流量檢測、冷卻水流量檢測、漏水傳感器、過電流漏電保護開關等安裝裝置。
規格：
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