尺寸: 直徑= 5.7“ 高= 5.5”
放電電壓 / 電流: 50-300V / 10A
操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機前體
KRI 霍爾離子源 eH 1000
上海伯東代理美國進口 KRI 霍爾離子源 eH 1000 高效氣體利用, 低成本設計提供高離子電流, 特別適合中型真空系統. 通常應用于離子輔助鍍膜, 預清洗和低能量離子蝕刻.
尺寸: 直徑= 5.7“ 高= 5.5”
放電電壓 / 電流: 50-300V / 10A
操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機前體
KRI 霍爾離子源 eH 1000 特性:
• 可拆卸陽極組件 - 易于維護; 維護時, 最限度地減少停機時間; 即插即用備用陽極
• 寬波束高放電電流 - 高電流密度; 均勻的蝕刻率; 刻蝕效率高; 高離子輔助鍍膜 IAD 效率
• 多用途 - 適用于 Load lock / 超高真空系統; 安裝方便; 無需水冷
• 高效的等離子轉換和穩定的功率控制
KRI 霍爾離子源 eH 1000 技術參數:
eH1000 / eH1000L / eH1000x02/ eH1000LEHO
供電
DC magnetic confinement
- 電壓
40-300V VDC
- 離子源直徑
~ 5 cm
- 陽極結構
模塊化
電源控制
eHx-30010A
配置
-
- 陰極中和器
Filament, Sidewinder Filament or Hollow Cathode
- 離子束發散角度
> 45° (hwhm)
- 陽極
標準或 Grooved
- 水冷
前板水冷
- 底座
移動或快接法蘭
- 高度
4.0'
- 直徑
5.7'
- 加工材料
金屬
電介質
半導體
- 工藝氣體
Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors
- 安裝距離
10-36”
- 自動控制
控制4種氣體
* 可選: 可調角度的支架; Sidewinder
KRI 霍爾離子源 eH 1000 應用領域:
• 離子輔助鍍膜 IAD
• 預清洗 Load lock preclean
• 預清洗 In-situ preclean
• Direct Deposition
• Surface Modification
• Low-energy etching
• III-V Semiconductors
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• Polymer Substrates
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