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THEIA 超快平面原子層沉積系統(tǒng)

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THEIA 是一款高性能,穩(wěn)定,靈活,可靠且安全的研發(fā)型原子層沉積系統(tǒng),兼具工業(yè)生產(chǎn)解決方案的優(yōu)勢(shì)。THEIA 超快平面原子層沉積系統(tǒng)可進(jìn)行升級(jí)改造,從而滿(mǎn)足科學(xué)研究的各種需求,并實(shí)現(xiàn)從“研發(fā)”到“生產(chǎn)”的無(wú)縫銜接。

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THEIA 超快平面原子層沉積系統(tǒng)藥物粉末包覆



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產(chǎn)品規(guī)格【藥物粉末包覆

1. SMFD-ALDTM 超快沉積:12-30 nm/min

2. 低維護(hù)周期:平均每 50 μm 沉積后維護(hù)一次

3. 閥門(mén):可實(shí)現(xiàn)<1ms 開(kāi)關(guān)控制,壽命可達(dá) 1 億次循環(huán),在 220℃ 下長(zhǎng)期穩(wěn)定工作

4. 薄膜不均勻度<1%

5. 可容納 3 片 75-300mm 基片,300×300×10mm 的腔室


產(chǎn)品特點(diǎn)

THEIA 解決了困擾 ALD 工藝多年以來(lái)的問(wèn)題:效率與維護(hù)。ALD 雖然擁有較好的膜厚控制與均一性,但因?yàn)樾什桓撸袌?chǎng)容量仍然低于 CVD。Forge Nano 擁有 SMFD-ALDTM 超快沉積技術(shù),可實(shí)現(xiàn)快 12-30nm/min 的沉積效率,將 ALD 沉積效率提升到新的高度。同時(shí)實(shí)現(xiàn)前驅(qū)體高利用率以及低維護(hù)成本,與 CVD 相比,THEIA 的集成減排設(shè)計(jì)可以實(shí)現(xiàn)污染物“*”,避免了環(huán)境污染問(wèn)題,節(jié)約大量成本,為 ALD 工藝提供了新的參考標(biāo)準(zhǔn)。

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