日立高新超高分辨率場發射掃描電子顯微鏡SU9000是專門為電子束敏感樣品和需300萬倍穩定觀察的*半導體器件，高分辨成像所設計。
新的電子槍和電子光學設計提高了低加速電壓性能。

品牌：日立

型號：SU9000

日立2011年新推出了SU9000超高分辨冷場發射掃描電鏡，達到掃描電鏡高二次電子分辨率0.4nm和STEM分辨率0.34nm。日立SU9000采取了全新改進的真空系統和電子光學系統，不僅分辨率性能明顯提升，而且作為一款冷場發射掃描電鏡甚至不需要傳統意義上的Flashing操作，可以高效率的快速獲取樣品超高分辨掃描電鏡圖像。
特點：
1. 新型電子光學系統設計達到掃描電鏡高分辨率：二次電子0.4nm（30KV），STEM 0.34nm（30KV）。
2. Hitachi設計的E×B系統，可以自由控制SE和BSE檢測信號。
3. 全新真空技術設計使得SU9000冷場發射電子束具有超穩定和高亮度特點。
4. 全新物鏡設計顯著提高低加速電壓條件下的圖像分辨率。
5. STEM的明場像能夠調整信號檢測角度，明場像、暗場像和二次電子圖像可以同時顯示并拍攝照片。
6. 與FIB兼容的側插樣品桿提高更換樣品效率和高倍率圖像觀察效率。