SPS旋涂儀是高品質、全NPP POLOS單晶片，為MEMS、半導體、PV、微流體域等域的研發和小批量生產而設計。適用于所有典型的旋涂。工藝：清潔、沖洗/干燥、涂層、顯影和蝕刻。

SPS旋涂儀是高品質、全NPP POLOS單晶片，為MEMS、半導體、PV、微流體域等域的研發和小批量生產而設計。適用于所有典型的旋涂。工藝：清潔、沖洗/干燥、涂層、顯影和蝕刻。

SPS旋涂儀

非常適合處理從直徑為 2.5  毫米到 160 毫米/ 260毫米的小碎片或尺寸為100x100 毫米或 150x150  毫米的方形樣品的各種基材。系統包括帶注射器支架的透明蓋子。直徑可達 300 毫米。 這些裝置通過易 于使用、可拆卸的彩色觸摸屏進行操  作，提供直觀的編程和配方存儲。可 以選擇添加各種噴嘴、超音速清洗和  分配線。所有旋涂機都標配有夾頭。標準單元為NPP材料，PTFE單元為PTFE。SPIN150i 適用于長達 150 毫米的基 材，包括免費的真空吸盤 A-V36 和 片段適配器 D-V10。

SPS旋涂儀規格

1、可編程 CW 和 CCW 以及攪拌旋轉

2、帶傳感器聯鎖的自動安全蓋鎖

3、速度 0 rpm - 12,000 rpm，精度 +/- 0.1 rpm

4、加速/減速 1 - 30,000 rpm/sec，每步可選

POLOS Advanced 系列規格

1、帶傳感器聯鎖的自動安全蓋鎖

2、自動順序或平行化學品分配

3、多達 6 個噴嘴，每個噴嘴可獨立編程

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