| 參考價 | ￥1000000-￥10000000 |
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上海伯東代理的熱蒸鍍設備可以準確的控制蒸發速度, 且薄膜的厚度和均勻度小于+/- 3％, 使用美國 KRi 離子源可用于基板清潔和加速材料的蒸發速度, 并且離子源在材料沉積過程中可幫助沉積并使沉積后的薄膜更為致密.
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金屬熱蒸鍍設備 Metal Thermal
熱蒸發是物理氣相沉積 PVD 中較常用方法, 也是 PVD 的形式之一. 使用電加熱的蒸發源可用于沉積大多數的有機和無機薄膜, 其中以電阻式加熱法較為常見. 這些蒸發源的優點為它們可以提供一種簡單的薄膜沉積方法, 以電流通過其容納材料的舟為方式, 從而加熱材料, 當沉積材料的蒸氣壓超過真空室的溫度時, 材料將開始蒸發并沉積到基板上.
上海伯東代理的熱蒸鍍設備可以準確的控制蒸發速度, 且薄膜的厚度和均勻度小于+/- 3％, 使用美國 KRi 離子源可用于基板清潔和加速材料的蒸發速度, 并且離子源在材料沉積過程中可幫助沉積并使沉積后的薄膜更為致密.
上海伯東金屬熱蒸鍍設備配置和優點:
客制化的基板尺寸, zui大直徑為 12寸晶圓或 470 x 370 mm2 (玻璃)
寬大的前開式門, 并有兩個窗口和窗口遮版用于觀察基材和蒸發源
優異的薄膜均勻度小于±3％
具有順序操作或共沉積的多個蒸發源
基板可加熱到 800°C
利用載臺旋轉來改善薄膜沉積的質量
基板至蒸發源之間距為可調式的
每個蒸發源和基材均有安裝遮板
金屬熱蒸鍍設備基本參數:
系統類型 | 超高真空 | 高真空 | 高真空緊湊型 |
腔室設計 | 鎳墊圈密封 | O型圈密封 | O型圈密封 |
極限真空 | 5X10-9 Torr | 3X10-7 Torr | 5X10-7 Torr |
腔室密封 | 一些密封圈 | 全部密封圈 | 全部密封圈 |
Load-lock | 標準 | 標準 | 可選 |
蒸發源 | 舟型或坩堝 | 舟型或坩堝 | 舟型或坩堝 |
基板 | 4-8 英寸 | 4-8 英寸 | 2-4 英寸 |
真空泵 | 低溫泵 / 分子泵 | 低溫泵 / 分子泵 | 分子泵和油泵 |
監控 | 真空規 和 QCM | 真空規 和 QCM | 真空規 和 QCM |
工藝控制 | 速率控制 | 速率控制 | 速率控制 |
供氣 | 氮氣 | 氮氣 | 氮氣 |
手套箱連接 | 可選 | 可選 | 可選 |
腔體
客制化的腔體尺寸取決于基板尺寸和其應用
寬大的前開式門, 并有兩個窗口和窗口遮版用于觀察基材和蒸發源
腔體的極限真空度約為 10-8 Torr
選件
可以與傳送腔, 機械手臂和手套箱整合在一起
結合 KRi 離子源, 濺鍍槍, 電子束, 等離子清潔...
基板冷卻
殘留氣體分析儀
應用領域
金屬材料研究
納米薄膜
太陽能電池
若您需要進一步的了解熱蒸鍍設備詳細信息或討論, 請參考以下聯絡方式
上海伯東: 羅先生
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