Explorer是多功能的高真空研發(fā)和中試生產(chǎn)平臺，其配置可為電子束(e-beam) 蒸發(fā)、電阻蒸發(fā)或磁控濺射。所有三種配置中均可選配離子輔助沉積功能。Explorer可在半手動模式下使用，也可升級到全自動模式，一鍵自動化操作，可以減少系統(tǒng)停機時間。

用途：
光學(xué)鍍膜表征和設(shè)計 半導(dǎo)體器件開發(fā) CIGS 和高級材料研究

電子顯微鏡樣品制備 質(zhì)量保證 故障分析

優(yōu)勢：

Explorer憑借靈活的腔室尺寸可以容納8英寸大的基片。濺射配置適合直流、脈沖直流和射頻濺射，并具備共聚焦濺射能力。可以選擇專有PEM技術(shù)，該技術(shù)是針對金屬氧化物和氮化物過渡模式下高速反應(yīng)濺射的閉環(huán)控制系統(tǒng)。
我們提供多種抽真空配置—擴散泵、冷泵和渦輪泵—泵可安裝在設(shè)備后部或底部來滿足工藝需求，并提供快速抽氣能力滿足高產(chǎn)能需求。