全反射 X 射線熒光光譜儀表面污染計(jì)量測(cè)量離散點(diǎn)的元素污染或使用完整的晶圓圖

全反射 X 射線熒光光譜儀TXRF 3760分析可以測(cè)量所有晶圓廠工藝中的污染，包括清潔、光刻、蝕刻、灰化、薄膜等。全反射 X 射線熒光光譜儀TXRF 3760 可以使用單目標(biāo) 3 光束 X 射線系統(tǒng)和無液氮探測(cè)器系統(tǒng)測(cè)量從鈉到 U 的元素。

全反射 X 射線熒光光譜儀TXRF 3760 包括理學(xué)獲得的 XYθ 樣品臺(tái)系統(tǒng)、真空晶圓機(jī)器人傳輸系統(tǒng)和新的用戶友好型窗口軟件。所有這些都有助于提高吞吐量、更高的準(zhǔn)確度和精度，以及簡(jiǎn)化的日常操作。

可選的掃描TXRF軟件可以繪制晶圓表面上的污染物分布圖，以識(shí)別可以更高精度自動(dòng)重新測(cè)量的“熱點(diǎn)”。可選的 ZEE-TXRF 功能克服了原始 TXRF 設(shè)計(jì)歷 15 mm 邊緣排除的問題，使測(cè)量能夠以零邊緣排除進(jìn)行。

• 易于操作，分析結(jié)果快速

• 接受 200 mm 及更小的晶圓

• 緊湊的設(shè)計(jì)，占地面積

• 大功率旋轉(zhuǎn)陽極源

• 多種分析元素（Na~U）

• 輕元素靈敏度（針對(duì)鈉、鎂和鋁）

• 應(yīng)用于裸硅和非硅基板

• 從缺陷檢測(cè)工具導(dǎo)入測(cè)量坐標(biāo)以進(jìn)行后續(xù)分析