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鼎竑GU-SP2000全自動磁控離子濺射儀

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優點安全至上高壓線多重防護;外殼良好接地;真空互鎖;系統自動防護性切斷濺射;實體按鍵,很安全

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優點

安全至上
高壓線多重防護;外殼良好接地;真空互鎖; 系統
自動防護性切斷濺射;實體按鍵,很安全。

注重用戶體驗
5英寸液晶屏,簡潔明了;
可多設置兩個參數,即可開始工作;
系統自動調整真空度,無需人工調節針閥;
自動放氣;樣品臺高度可調節。

信息量大
濺射過程中真空度和濺射電流以曲線方式實時顯示,簡單直觀;
靶材使用時間,儀器使用時間系統自動記錄,直觀了解設備的運行狀態;

快速上手
設備內置操作向導,在操作人員更換時,無需培訓,即可快速熟練操作設備;

應用領域廣
濺射電流與壓力無關、基本沒有熱損傷,因此適用于所有樣品,尤其是溫度敏感性樣品如生物、聚合
物等樣品;工作時真空度好,鍍膜的顆粒度更小,更適用場發射等高分辨觀測電極制備。

技術參數

輸入電壓:AC220V±10%,50Hz
工作電壓:DC600V
上限功率:(主機與機械泵) 450W
可選靶材:金、鉑、銀、銅、鈦、鉛等常用金屬
真空泵:兩級直聯旋片式真空泵 1L/s
真空腔:約φ125×125mm
樣品杯:φ64×1
整機尺寸:(長×寬×高) 424×271×255(mm)
重量(主機): 11 kg
工作環境:溫度 5~40℃,濕度<60%
存儲環境:溫度-10~60℃,濕度<80%
工作氣體:Air / Ar
保護功能:過流、真空雙保護


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