背散射電子圖像分辨率：1.6 nm @ 15 kV
二次電子圖象分辨率：0.6 nm @ 15 kV
加速電壓：0.2~30 kV (減速模式下<>
放大倍數(shù)：2~2,000,000 倍
儀器種類：場(chǎng)發(fā)射

TESCAN MAGNA 新一代超高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡
TESCAN MAGNA 是一款功能極其強(qiáng)大的分析儀器，適用于納米材料的形貌表征以及微觀分析。TESCAN MAGNA 配置 Triglav™ 型 SEM 鏡筒，具有超高的分辨率，在低電壓下尤為明顯；鏡筒內(nèi)探測(cè)器系統(tǒng)具有電子信號(hào)過濾能力，可以獲得更好的圖像襯度和表面靈敏度，非常適用于不導(dǎo)電樣品的成像，如陶瓷、無涂層生物樣品，以及在半導(dǎo)體光敏樣品。此外，TESCAN MAGNA 配備肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍，能夠提供高達(dá) 400 nA 的束流，結(jié)合 Triglav™ 型 SEM 鏡筒所具備的出色納米尺度分析性能和高穩(wěn)定性，為微分析和長耗時(shí)樣品的分析應(yīng)用提供了條件。
TESCAN MAGNA 使用了全新的 TESCAN Essence™ 軟件，用戶界面友好，可以滿足各類應(yīng)用需求，可定制的布局以及自動(dòng)化的樣品制備功能，限度地提升了操作便捷性和工作效率。

TESCAN MAGNA FE-SEM 主要優(yōu)勢(shì)：
* 強(qiáng)大的微觀形貌觀測(cè)和微分析能力

TESCAN 的 Triglav™ 型 SEM 鏡筒具有 TriLens™ 三物鏡系統(tǒng) ，適用領(lǐng)域更加多樣化。UH-resolution  物鏡提供的超高分辨率非常適合于形貌細(xì)節(jié)觀察，使研究人員能夠更好的分析納米級(jí)樣品。全新的高分辨 Analytical 物鏡可實(shí)現(xiàn)無漏磁成像，是磁性樣品觀察和分析（EDS, EBSD）的理想選擇。第三個(gè)物鏡可以實(shí)現(xiàn)多種觀測(cè)模式切換，新一代 Triglav™ 鏡筒還具有自適應(yīng)束斑優(yōu)化功能，可以提高了大束流下的分辨率，這一特點(diǎn)有利于更好的進(jìn)行 EDS、WDS 和 EBSD 等分析。

* 提供的分析條件
肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍能夠產(chǎn)生高達(dá) 400 nA 的電子束流，電壓也可以快速改變并保證在所有的分析應(yīng)用下都能夠獲得良好的信號(hào)。

* 讓復(fù)雜的應(yīng)用變的的簡單
新一代 TESCAN Essence™ 是一款簡化的、支持多用戶的軟件，它的布局管理器可以幫助用戶快速、方便地訪問所有主要功能。軟件界面可自定義，更好地適應(yīng)特定的應(yīng)用方向，符合不同用戶的使用偏好。軟件的各種功能模塊、向?qū)Ш蛻?yīng)用方案使得無論是入門級(jí)用戶或是專家級(jí)用戶都能夠輕松順暢的掌握掃描電鏡的操作，從而提升樣品的處理速度，提高工作效率。

* 可以獲得不同襯度圖像，洞察樣品 
TESCAN MAGNA 配備 TriBE™ 探測(cè)器系統(tǒng)：包含三個(gè)背散射電子探測(cè)器，可以根據(jù)角度和能量的差異選擇性地收集信號(hào)。Mid-Angle BSE 和 In-Beam f-BSE 探測(cè)器位于鏡筒內(nèi)，可以接收中角度和軸向的背散射電子，而樣品室內(nèi)背散射電子探測(cè)器則用于接收廣角背散射電子。同時(shí)，TESCAN MAGNA 還配備 TriSE™ 探測(cè)器系統(tǒng)：共有三個(gè)二次電子探測(cè)器，可在所有工作模式下以方式獲取二次電子：In-Beam SE 探測(cè)器可以在非常短的工作距離下接收二次電子；SE（BDM）為電子束減速模式下的二次電子探測(cè)器，可以提供的分辨率；樣品室內(nèi)的二次電子探測(cè)器則能提供形貌襯度的圖像。

TESCAN MAGNA FE-SEM 突出特點(diǎn)：
的電子信號(hào)選擇檢測(cè)功能，幫助用戶獲得更好的表面靈敏度和襯度。
進(jìn)一步提升了低電壓下超高分辨 SEM 成像，以及在 30keV 下使用 STEM 表征納米材料的性能。
自適應(yīng)束斑優(yōu)化功能，有利于更好的進(jìn)行 EDS、WDS 和 EBSD 等分析。