儀器簡介：
XAU-4CS是一款設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)緊湊，模塊精密化程度高的光譜分析儀，采用了下照式C型腔體設(shè)計(jì)，是一款一機(jī)多用型光譜儀。
應(yīng)用核心EFP算法和微光聚集技術(shù)，既保留了專用測(cè)厚儀jiance微小樣品和凹槽的性能，又可滿足微區(qū)RoHSjiance及成分分析。
被廣泛用于各類產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來料檢驗(yàn)和對(duì)生產(chǎn)工藝控制的測(cè)量使用。
產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：
微小樣品jiance：zui小測(cè)量面積0.03mm2（加長測(cè)量時(shí)間可小zhi0.01mm2）
變焦裝置算法：可改變測(cè)量距離測(cè)量凹凸異形樣品，變焦距離可達(dá)0-30mm
自主研發(fā)的EFP算法：Li（3）-U（92）元素的涂鍍層，多層多元素，甚zhi有同種元素在不同層也jingque測(cè)量
的解譜技術(shù)：減少能量相近元素的干擾，jiangdi檢出限
高性能探測(cè)器：SDD硅漂移窗口面積25/50mm2探測(cè)器
光路系統(tǒng)：微焦加強(qiáng)型射線管搭配聚焦、光路交換裝置
多準(zhǔn)直器自動(dòng)切換
應(yīng)用領(lǐng)域：
廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)、新能源行業(yè)、5G通訊、五金建材、航空航天、環(huán)保行業(yè)、汽車行業(yè)、貴金屬jiance、精密電子、電鍍行業(yè)等多種領(lǐng)域。
多元迭代EFP核心算法（號(hào)：2017SR567637）
zhuanye的研發(fā)團(tuán)隊(duì)在Alpha和Fp法的基礎(chǔ)上，計(jì)算樣品中每個(gè)元素的一次熒光、二次熒光、靶材熒光、吸收增qiangxiao應(yīng)、散射背景等多元優(yōu)化迭代開發(fā)出EFP核心算法，結(jié)合的光路轉(zhuǎn)換技術(shù)、變焦結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)及穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng)，只需要少量的標(biāo)樣來校正儀器因子，可測(cè)試重復(fù)鍍層、非金屬、輕金屬、多層多元素以及yuoji物層的厚度及成分含量。
單涂鍍層應(yīng)用：如Ni/Fe、Ag/Cu等
多涂鍍層應(yīng)用：如Au/Ni/Fe、Ag/Pb/Zn等
合金鍍層應(yīng)用：如ZnNi/Fe、ZnAl/Ni/Cu等
合金成分應(yīng)用：如NiP/Fe，通過EFP算法，在計(jì)算鎳磷鍍層厚度的同時(shí)，還可精準(zhǔn)分析出鎳磷含量比例。
重復(fù)鍍層應(yīng)用：不同層有相同元素，也可精準(zhǔn)測(cè)量和分析。
如釹鐵硼磁鐵上的Ni/Cu/Ni/FeNdB，diyi層Ni和第三層Ni的厚度均可測(cè)量。
有害元素jiance：RoHSjiance，可滿足鉛（Pb）、汞（Hg）、鎘（Cd）、六價(jià)鉻（Cr VI）等有害元素的成分jiance及含量分析
技術(shù)參數(shù)：
1. 成分分析范圍：鋁（Al）- 鈾（U）
2. 成分zui低檢出限：1ppm
3. 涂鍍層分析范圍：鋰（Li）- 鈾（U）
4. 涂鍍層zui低檢出限：0.005μm
5. zui小測(cè)量直徑□0.1*0.3mm（zui小測(cè)量面積0.03mm2）
標(biāo)配：zui小測(cè)量直徑0.3mm（zui小測(cè)量面積0.07mm2）
6. 對(duì)焦距離：0-30mm
7. 樣品腔尺寸：500mm*360mm*215mm
8. 儀器尺寸：550mm*480mm*470mm
9. 儀器重量：45KG
10. XY軸工作臺(tái)移動(dòng)范圍：50mm*50mm
11. XY軸工作臺(tái)zui大承重：5KG
選擇一六儀器的四大理由：
1.一機(jī)多用，無損jiance（涂鍍層jiance-環(huán)保RoHS-成分分析）
2.zui小測(cè)量面積0.002mm2
3.可jiance凹槽0-30mm的異形件
4.輕元素，重復(fù)鍍層，同種元素不同層亦可jiance
