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XTU系列X熒光光譜測厚儀

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XTU-4CX熒光光譜儀型號:XTU-4C測量面積:最小0.002mm2鍍層分析:23層鍍層24種元素儀器特點:可手動變焦儀器優勢:同元素不同層分析儀器簡介:XTU-4C是一款設計結構緊湊,模塊精密化程度的鍍層測厚儀,采用了下照式C型腔體設計,不但可以測量各種微小樣品,即使大型超出樣品腔尺寸的工件也可測量,是一款測量涂鍍層成分及厚度性價比高、適用性強的機型

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XTU-4C X熒光光譜儀

型號:XTU-4C


測量面積:最小0.002mm2

鍍層分析:23層鍍層24種元素

儀器特點:可手動變焦

儀器優勢:同元素不同層分析


儀器簡介:

XTU-4C是一款設計結構緊湊,模塊精密化程度的鍍層測厚儀,采用了下照式C型腔體設計,不但可以測量各種微小樣品,即使大型超出樣品腔尺寸的工件也可測量,是一款測量涂鍍層成分及厚度性價比高、適用性強的機型。

該系列儀器使用于平面、微小樣品或者微凹槽曲面深度30mm以內的樣品涂鍍層檢測。

被廣泛用于各類產品的質量管控、來料檢驗和對生產工藝控制的測量使用。


產品優勢:


技術參數:

1. 元素分析范圍:氯(Cl)- 鈾(U)

2. 涂鍍層分析范圍:氯(Cl)/鋰(Li)- 鈾(U)

3. 厚度檢出限:0.005μm

4. 成分檢出限:1ppm

5. 最小測量直徑0.2mm(最小測量面積0.03mm2)

6. 對焦距離:0-30mm

7. 樣品腔尺寸:500mm*360mm*215mm

8. 儀器尺寸:550mm*480mm*470mm

9. 儀器重量:45KG

10. XY軸工作臺移動范圍:50mm*50mm

11. XY軸工作臺承重:5KG


應用領域:


多元迭代EFP核心算法

專業的研發團隊在Alpha和Fp法的基礎上,計算樣品中每個元素的一次熒光、二次熒光、靶材熒光、吸收增強效應、散射背景等多元優化迭代開發出EFP核心算法,結合的光路轉換技術、變焦結構設計及穩定的多道脈沖分析采集系統,只需要少量的標樣來校正儀器因子,可測試重復鍍層、非金屬、輕金屬、多層多元素以及有機物層的厚度及成分含量。

單涂鍍層應用:如Ni/Fe、Ag/Cu等

多涂鍍層應用:如Au/Ni/Fe、Ag/Pb/Zn等

合金鍍層應用:如ZnNi/Fe、ZnAl/Ni/Cu等

合金成分應用:如NiP/Fe,通過EFP算法,在計算鎳磷鍍層厚度的同時,還可精準分析出鎳磷含量比例。

重復鍍層應用:不同層有相同元素,也可精準測量和分析。

如釹鐵硼磁鐵上的Ni/Cu/Ni/FeNdB,層Ni和第三層Ni的厚度均可測量。


配置清單:


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