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金相顯微鏡XJ-59C

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產(chǎn)品概述科研級(jí)明暗場(chǎng)正置金相顯微鏡XJ-59C配有超大移動(dòng)范圍的載物臺(tái),落射照明器、無(wú)限遠(yuǎn)明暗場(chǎng)長(zhǎng)距平場(chǎng)物鏡和大視野目鏡的配置

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科研級(jí)明暗場(chǎng)正置金相顯微鏡XJ-59C配有超大移動(dòng)范圍的載物臺(tái),落射照明器、無(wú)限遠(yuǎn)明暗場(chǎng)長(zhǎng)距平場(chǎng)物鏡和大視野目鏡的配置。具有外形美觀,圖像清晰度高、操作方便等特點(diǎn),同時(shí)配有暗場(chǎng)裝置及偏光裝置,可實(shí)現(xiàn)明暗暗場(chǎng)、偏光、微分干涉觀察,是一款多功能材料檢測(cè)顯微鏡。適用于薄片試樣的金相、礦相、晶體、硅片、電路基板、FPD等結(jié)構(gòu)分析和研究,或用于觀察材料表面特性,如:劃痕、裂紋、噴涂的均勻性等分析研究。是金屬學(xué)、礦物學(xué)、精密工程學(xué)、電子學(xué)、半導(dǎo)體工業(yè)、硅片制造業(yè)、電子信息產(chǎn)業(yè)等觀察研究的理想儀器。總放大倍數(shù):50X-500X

 

產(chǎn)品特點(diǎn):

1、采用了為的無(wú)限遠(yuǎn)校正光路設(shè)計(jì),提供了的光學(xué)系統(tǒng)。

2、配置了偏光、暗場(chǎng)裝置、可選配微分干涉裝置,拓展了功能。

3、系統(tǒng)配置了大尺寸、大范圍移動(dòng)載物臺(tái),適合大工件的檢查。

4、采用大視野目鏡和明暗場(chǎng)長(zhǎng)距平場(chǎng)物鏡,視場(chǎng)平坦,成像清晰。

5、整機(jī)采用了防霉處理,保護(hù)了鏡頭,延長(zhǎng)了儀器的使用壽命。 

6、兩路光路自由切換輸出,一路用于觀察,一路連接攝像裝置。

 

產(chǎn)品應(yīng)用:

1電子工業(yè)制造業(yè)對(duì)硅片、電路基板、FPDPCB板、芯片檢驗(yàn)。2、觀察材料表面的某些特性,3分析金屬、礦相內(nèi)部結(jié)構(gòu)組織。

型號(hào)

配置

光學(xué)系統(tǒng)

無(wú)限遠(yuǎn)色差校正光學(xué)系統(tǒng)

放大倍數(shù)

50-500

觀 察 筒

無(wú)限遠(yuǎn)鉸鏈三通觀察筒,瞳距調(diào)節(jié):50mm~76mm,分光比1000

   

高眼點(diǎn)大視野目鏡SWH10X-H/25mm,視度可調(diào)

  

無(wú)限遠(yuǎn)半復(fù)消長(zhǎng)距明暗場(chǎng)物鏡 45MM可見(jiàn)光金相物鏡5X NA0.15 WD14.8mm

無(wú)限遠(yuǎn)半復(fù)消長(zhǎng)距明暗場(chǎng)物鏡 45MM可見(jiàn)光金相物鏡10X NA0.30 WD8.5mm

無(wú)限遠(yuǎn)半復(fù)消長(zhǎng)距明暗場(chǎng)物鏡 45MM可見(jiàn)光金相物鏡20X NA0.45 WD11.9mm

無(wú)限遠(yuǎn)半復(fù)消長(zhǎng)距明暗場(chǎng)物鏡 45MM可見(jiàn)光金相物鏡50X NA0.75 WD3.0mm

物鏡轉(zhuǎn)換器

5孔明暗場(chǎng)物鏡轉(zhuǎn)換器(帶DIC插槽)

機(jī) 

上光源

反射用機(jī)架低手位粗微同軸調(diào)焦機(jī)構(gòu)。粗調(diào)行程35mm,微調(diào)精度0.001mm。帶有防止下滑的調(diào)節(jié)松緊裝置和隨機(jī)上限位裝置。內(nèi)置100-240V寬電壓系統(tǒng)

載 物 臺(tái)

4英寸載物臺(tái),平臺(tái)面積310*240mm,移動(dòng)行程:100mmX100mm機(jī)械平臺(tái),XY方向同軸調(diào)節(jié);

聚 光 鏡

搖出式消色差聚光鏡(N.A.0.9

反射照明器

明暗場(chǎng)反射照明器,帶可變孔徑光闌,視場(chǎng)光闌,中心可調(diào),帶濾色片插槽,帶起偏鏡/檢偏鏡  起偏鏡插板,360°旋轉(zhuǎn)式檢偏鏡插板

   

10W可調(diào)LED燈室透、反射通用,預(yù)定中心

攝像接口

攝影攝像附件:0.65XC型接口,可調(diào)焦


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