研發(fā)領(lǐng)域?qū)Ｓ玫亩嗳肷浣羌す鈾E偏儀，采用多項技術(shù)，儀器硬件和軟件具有多項定制功能設(shè)計，適用于光面或絨面納米薄膜測量、塊狀固體參數(shù)測量、快速變化的納米薄膜實時測量等不同的應(yīng)用場合。 產(chǎn)品特點： 1.高精度、高穩(wěn)定性 2.一體化集成設(shè)計 3.測量簡單 4.快速、高精度樣品方位對準(zhǔn) 5.多角度測量 6.實時測量 7.豐富的材料庫及物理模型 8.強大的數(shù)據(jù)分析和管理功能 應(yīng)用領(lǐng)域： 可應(yīng)用于納米薄膜的幾乎所有領(lǐng)域，如微電子、半導(dǎo)體、生命科學(xué)、電化學(xué)、顯示技術(shù)、磁介質(zhì)及金屬處理等。可對納米層構(gòu)樣品的薄膜厚度和折射率n及消光系數(shù)k進行快速、高精度、高準(zhǔn)確度的測量，尤其適用于科研和工業(yè)產(chǎn)品環(huán)境中的新品研發(fā)及質(zhì)量監(jiān)控，可用于表征單層納米薄膜、多層納米層構(gòu)模系，以及塊狀材料（基底）。

技術(shù)指標(biāo)：