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返回產品中心>高分辨率掃描透射電子顯微鏡成像HAADF-STEM圖像0.136 nm,FFT圖像0.105 nm(高分辨率鏡頭*)HAADF-STEM圖像0.144 nm(標準鏡頭)明場掃描透射電子顯微鏡圖像0.204 nm(w/o球差校正儀)高速,高靈敏度能譜分析:探針電流×10倍元素面分布更迅速及時低濃度元素檢測操作簡化自動圖像對中功能從樣品制備到觀察分析實現無縫連接樣品桿與日立聚焦離子束系統兼容配有各種選購件可執行各種評估和分析操作同時獲取和顯...
HAADF-STEM圖像0.136 nm,FFT圖像0.105 nm(高分辨率鏡頭*)
HAADF-STEM圖像0.144 nm(標準鏡頭)
明場掃描透射電子顯微鏡圖像0.204 nm(w/o球差校正儀)
元素面分布更迅速及時
低濃度元素檢測
自動圖像對中功能
樣品桿與日立聚焦離子束系統兼容
同時獲取和顯示SE&BF, SE&DF, BF&DF, DF/EDX面分布*和DF/EELS面分布*圖像。
低劑量功能*(使樣品的損傷和污染程度降至)
高精度放大校準和測量*
實時衍射單元*(同時觀察暗場-掃描透射電子顯微鏡圖像和衍射圖案)
采用三維微型柱旋轉樣品桿(360度旋轉)*,具有自動傾斜圖像獲取功能。
ELV-3000即時元素面分布系統*(同時獲取暗場-掃描透射電子顯微鏡圖像)
* :
選購件
項目 | 描述 | ||
---|---|---|---|
圖像分辨率 | w/o球差校正儀 | 保證 0.204 nm(當放大倍數為4,000,000時) | |
w球差校正儀 | 保證 0.144 nm(當放大倍數為7,000,000時)(標準鏡頭) | ||
保證 0.136 nm(HAADF圖像) 保證 0.105 nm(通過FFT)(當放大倍數為7,000,000時)(高分辨率鏡頭*) | |||
放大倍數 | 100倍 至 10,000,000倍 | ||
加速電壓 | 200 kV, 120 kV * | ||
成像信號 | 明場掃描透射電子顯微鏡:相襯圖像(TE圖像) 暗場掃描透射電子顯微鏡:原子序數襯度圖像(Z襯度圖像) 二次電子圖像(SE圖像) 電子衍射* 特征X射線分析和面分布(能譜分析)* 電子能量損失譜分析和面分布(EV3000)* | ||
電子光學系統 | 電子源 | 肖特基發射電子源 | |
冷場致發射器* | |||
照明透鏡系統 | 2-段聚光鏡鏡頭 | ||
球差校正儀* | 六極鏡頭設計 | ||
掃描線圈 | 2-段式電磁感應線圈 | ||
原子序數襯度收集角控制 | 投影鏡設計 | ||
電磁圖像位移 | ±1 µm | ||
試片鏡臺 | 樣品移動 | X/Y軸 = ±1 mm, Z軸 = ±0.4 mm | |
樣品傾斜 | 單軸-傾斜樣品桿:±30°(標準鏡頭), ±18°(高分辨率鏡頭*) | ||
真空系統 | 3個離子泵,1個TMP | ||
極限真空 | 10-8 Pa(電子槍), 10-5 Pa(樣品室) | ||
圖像顯示 | 個人電腦/操作系統 | PC/AT兼容, Windows® XP | |
監視器 | 19-inch液晶顯示器面板 | ||
圖像幀尺寸 | 640 × 480, 1,280 × 960, 2,560 × 1,920 象素 | ||
掃描速度 | 快掃,慢掃(0.5至320秒/幀) | ||
自動數據顯示 | 記錄序號,加速電壓,下標尺,日期,時間 |
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