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更多> 【儀器網(wǎng) 解決方案】雖然X熒光光譜的互相干擾情況比較少,而且大多數(shù)情況下對(duì)分析結(jié)果的影響不大,但是在某些情況如稀土化合物中稀土元素的測(cè)定,仍然需要克服干擾譜線。因此,操作人員也需要掌握一些消除干擾譜線的方法。
激發(fā)源
對(duì)于X射線管說來,可以根據(jù)可能產(chǎn)生譜線干擾的來源,更換適當(dāng)靶材的x射線管,選擇足以抑制干擾譜線出現(xiàn)的管壓,將樣品屏蔽到較小的區(qū)域以減少?gòu)?qiáng)大的原級(jí)標(biāo)識(shí)光譜的散射等。
若還不能有效地克服來自激發(fā)源的干擾時(shí),有時(shí)也可以采用濾光片以消除干擾線,或者以原級(jí)束照射能夠產(chǎn)生波長(zhǎng)略短于分析元素吸收限的次級(jí)靶,然后以次級(jí)靶作為試樣的激發(fā)源。
分析晶體與光路
對(duì)一定結(jié)構(gòu)的x射線分光計(jì)說來,可以通過選擇適當(dāng)?shù)姆治鼍w,以消除存在于樣品中干擾元素的偶數(shù)級(jí)反射線對(duì)分析線(或參比線)干擾。此外選擇分辨率高的分析晶體和準(zhǔn)直器,有時(shí)也可以消除或減輕某些譜線的干擾。
其它的,在光路中可變 的部件就是標(biāo)本座、樣品的薄膜底座和x射線束衰減 (減光板)等。有時(shí),還有可能用到濾光片,對(duì)于這些可變的部件,可以根據(jù)實(shí)際情況作出選擇,以便將譜線干擾限制在低限度。
探測(cè)和測(cè)量系統(tǒng)
盡可能選擇有利工作條件,以減少或消除上述激發(fā)源和光學(xué)系統(tǒng)無法消除的干擾譜線。
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