旋風(fēng)等離子清洗機(jī)

PIE 代表 Plasma ，Ion ，Electron
PIE 專業(yè)致力于等離子刻蝕，清洗，表面處理和離子，電子束產(chǎn)品的應(yīng)用。
PIE INC 成立于等離子研究小組在勞倫斯伯克利國家實驗室。經(jīng)過15年在硅谷研究經(jīng)驗，我們的SmartClean™ *的技術(shù)已經(jīng)被世界上*大學(xué)，研究所，實驗室使用。

Tergeo-plus 等離子清洗機(jī)

Large chamber tabletop plasma cleaner for R&D, low to mid volume production.

特    征: 

• 清洗方式：沉浸式等離子清洗可以高速刻蝕和表面改性；遠(yuǎn)程等離子體可以輕微的清除表面污染，如SEM、TEM樣品清洗；脈沖放電后產(chǎn)生等離子體的平均功率小于0.5watt，可以處理極精致樣品。           
• 操作方法：自動配方執(zhí)行；自動作業(yè)順序執(zhí)行；亦可手動操作。           
• 等離子傳感器：雙等離子強(qiáng)度傳感器（申請中）監(jiān)測現(xiàn)場等離子源和遠(yuǎn)程等離子源。等離子強(qiáng)度實時顯示在LCD觸摸屏上。           
• *工藝控制能力：壓力傳感器、溫度傳感器、MFC氣體流量計、雙等離子強(qiáng)度傳感器、自動阻抗匹配。           
• 腔體材料：鋁法蘭，石英腔體
• 石英腔體尺寸：內(nèi)徑：160mm；外徑170mm；深度280mm           
• 樣品架：2mm厚高純度石英板           
• 射頻天線：外部射頻電極和天線設(shè)計減少了內(nèi)部金屬電極在等離子清洗機(jī)中發(fā)現(xiàn)的金屬濺射問題。           
• 射頻功率：13.56mhz高頻射頻電源，自動原位等離子體源的阻抗匹配。射頻功率有兩種選擇：0-75watt和0-150watt。13.56MHz的射頻電源產(chǎn)生比兆聲電源產(chǎn)生高濃度等離子體。           
• 工藝氣路：高達(dá)三個質(zhì)量流量控制氣體輸入（0 ~ 100sccm）。一個額外的排氣口。¼英寸世偉洛克壓縮接頭連接器。           
• 用戶界面：7寸電阻式觸摸屏，觸摸的手指，沒有手寫筆的要求。           
• 軟件：總共20個可定制的配方。每個工藝步驟多達(dá)三個清理步驟。

典型的應(yīng)用： 

• 引線鍵合倒裝芯片底部填充，器件的封裝和解封           
• 光刻膠灰化、除渣、硅片清洗           
• PDMS/微流控/載玻片/芯片實驗
• 去除的掃描電鏡/電鏡樣品上碳?xì)湮廴疚?/li>
• 改善金屬與金屬或復(fù)合材料的結(jié)合          
• 改善塑料、聚合物和復(fù)合材料的粘接