CMSD2000芳綸涂覆隔膜研磨分散機設計*，能夠延長易損件的使用時間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機多用，也可以單獨使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進行調整。

CMSD2000芳綸涂覆隔膜研磨分散機，芳綸纖維涂覆隔膜濕法研磨分散機，芳綸涂覆隔膜高剪切研磨分散機，管線式芳綸涂覆隔膜研磨分散機，在線式芳綸涂覆隔膜研磨分散機，進口芳綸涂覆隔膜研磨分散機，中試型芳綸涂覆隔膜研磨分散機

IKN研磨分散機設計*，能夠延長易損件的使用時間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機多用，也可以單獨使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進行調整。

芳綸纖維涂覆隔膜是以超短芳綸纖維為主，配加芳綸沉析纖維抄造而成，通過調整纖維配方和成型工藝可滿足電池隔膜特定的透氣性和孔隙率要求，電池隔膜可實現電池正負極的機械隔離功能，同時保證低的電阻和高的離子電導率，還具有足夠的電化學穩定性。即具有優異的耐溫性能、高清度、耐疲勞性能、低變性、耐火阻燃性能、耐化學腐蝕性，比重小等優點，可廣泛用于各種離子電池的制造中。

詳詢依肯機械  賈清清

CMD2000系列研磨分散機的結構：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

上海依肯的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續24小時不停機運行。簡單的說就是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤。可根據物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇） IKN研磨分散機可以高速研磨，分散，乳化，均質等功能，設備轉速可達14000rpm，是目前普通設備轉速的4-5倍。

CMD2000系列研磨分散機設備選型表
 

流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，可以被調節到zui大允許量的10%

工藝應用:

食品纖維類物料的濕法超細破碎與均質      可溶物(或互溶物)固體和液體加速溶解

動物和植物組織的超細破碎及漿化加工      不相溶的固-液相懸浮物超細混合分散

不相溶的固-液相懸浮物超細混合分散       納米材料團聚物的強力解聚與超細分散

CMSD2000芳綸涂覆隔膜研磨分散機，芳綸纖維涂覆隔膜濕法研磨分散機，芳綸涂覆隔膜高剪切研磨分散機，管線式芳綸涂覆隔膜研磨分散機，在線式芳綸涂覆隔膜研磨分散機，進口芳綸涂覆隔膜研磨分散機，中試型芳綸涂覆隔膜研磨分散機