SAL1000 系列桌面型ALD原子層沉積系統是由日本AGUS生產的桌面型ALD原子層沉積設備，可搭載2路前驅體。適用于4英寸（φ 100mm）基片的沉積，并可搭載粉末樣品架和手套箱。

SAL1000 系列桌面型ALD原子層沉積系統

SAL-1000Series是由日本AGUS生產的桌面型ALD原子層沉積設備，可搭載2路前驅體。適用于4英寸（φ 100mm）基片的沉積，并可搭載粉末樣品架和手套箱。

SAL1000 系列桌面型ALD原子層沉積系統具備如下特點：

1.良好的成膜性能，膜厚均勻性高，≤3%

· 對于內孔、凹槽與高深寬比結構具有良好的沉積均勻性；

· 膜厚可準確控制達一個原子層；

· 大面積制程可達到無孔洞薄膜（Pin Hole free）

· *的重復性及穩定性

· 材料缺陷密度低

· 可成長非晶型或結晶薄膜（選擇溫度）

2.優異的真空性能，真空度≤5Pa

3.觸控操作，簡單易用；

·觸摸屏使用戶可以輕松設置配方或沉積過程，并檢查每個驅動系統的運動。

·可進行自動沉積，并在沉積完成后自動完成N₂排放。

·手套箱的真空排氣和惰性氣體的引入也可自動完成。

4.配件豐富，可滿足多種試驗需求：

基底旋轉架、粉末樣品配件、手套箱、臭氧發生器、尾氣處理設備、200℃前驅體的加熱器，干式真空泵等；

粉末沉積配件：傾斜框架可調整的角度為0 ~ 45°，更便于粉末成膜。單次可對5cm³的粉體進行表面沉積；