校準(zhǔn)標(biāo)樣

參考價	面議

參考價

面議

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

促銷時間：

特價說明：

促銷詳細(xì)：

2020年01月08日至 2020年02月08日

特價促銷

模內(nèi)澆口分離自動化，降低對人的依賴度；傳統(tǒng)的塑膠模具開模后產(chǎn)品與澆口相連，需二道工序進(jìn)行人工剪切分離，模內(nèi)熱切模具將澆口分離提前至開模前，消除后續(xù)工序，有利于生產(chǎn)自動化，降低對人的依賴。

Applied Nanotools為分辨率應(yīng)用提供X射線，EUV和可見光顯微鏡的校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)。這些高質(zhì)量的光學(xué)元件包括各種校準(zhǔn)元件，可在以下SEM圖像中看到：

ANT校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)設(shè)計用于具有納米級特征的X射線成像系統(tǒng)的分辨率要求。適用于軟X射線和硬X射線機(jī)制以及光學(xué)設(shè)置。

嵌套的Ls或彎頭允許高分辨率測量，保證間距和效率。在高分辨率標(biāo)準(zhǔn)下低至15 nm半間距。

該圖案允許校準(zhǔn)和準(zhǔn)確比較X射線與其他成像方法的光學(xué)分辨率。

Applied Nanotool的定制設(shè)計NanoUSAF 1951基于USAF 1951設(shè)計，但具有納米而非微米的特征

Device	Base Price
Ultra-High Resolution Soft X-Ray Calibration Standard (70 nm Au) (15 nm half pitch)	USD $5000
Soft X-Ray Calibration Standard (200 nm Au) (20 nm half pitch or better)	USD $4500
Hard X-Ray Calibration Standard (>600 nm Au) (25 nm half-pitch or better)	USD $6000
Features Include: ? Nested L’s ? Siemen star patterns (large and small) ? Varying pitch gratings and meshe ? Nano USAF 1951
Customization	Extra Fee
? Custom Logo (Max 50 µm ² area)	$1000
? Low stress 50 nm silicon nitride membrane	$2000
? Low stress 100 nm silicon carbide membrane	$2500
? Fused Silica Substrate (~500 um thick) Chrome metal on glass (positive tone-only)	$2500
Negative polarity (features transparent) ? 30 nm minimum feature size (soft X-ray) ? 50 nm minimum feature size (hard X-ray)	$1250
? Custom chip sizes	Contact us