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參考價(jià)

面議

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱 香港電子器材有限公司
品牌
型號(hào)
所在地
廠商性質(zhì) 其他
更新時(shí)間 2021/3/2 20:03:54
訪問次數(shù) 180

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促銷詳情

促銷時(shí)間：

特價(jià)說明：

促銷詳細(xì)：

2020年01月08日至 2020年02月08日

特價(jià)促銷

模內(nèi)澆口分離自動(dòng)化，降低對(duì)人的依賴度；傳統(tǒng)的塑膠模具開模后產(chǎn)品與澆口相連，需二道工序進(jìn)行人工剪切分離，模內(nèi)熱切模具將澆口分離提前至開模前，消除后續(xù)工序，有利于生產(chǎn)自動(dòng)化，降低對(duì)人的依賴。

詳細(xì)信息在線詢價(jià)

美國 PVA TePla
等離子表面清洗系統(tǒng)

等離子體清洗是在分子水平上用於精確清潔基材的乾燥，無溶劑技術(shù)。精密清洗是用於工業(yè)用的應(yīng)用範(fàn)圍從微電子半導(dǎo)體晶片清洗科研的生物負(fù)擔(dān)去污廣譜的要求。實(shí)現(xiàn)和製造*方法期間保持表面清潔度在分子水平。

優(yōu)點(diǎn):
• 方便快捷
• 沒有污染物
• 不需要濕化學(xué)品

應(yīng)用範(fàn)圍:
• 微電子半導(dǎo)體
• 晶片清洗
• 科研的生物去污

全新!

INLINE高產(chǎn)量PECVD系統(tǒng) (Inline High Capacity PECVD Systems)

ILHC是一個(gè)連續(xù)的高速真空等離子系統(tǒng)。它提供了等離子體輔助化學(xué)氣相沉積(PECVD)，蝕刻，清洗和活化在高生產(chǎn)環(huán)境全過程控制。

ILHC是為了滿足廣大客戶的高產(chǎn)能量的要求。它提供了快速的工藝處理時(shí)間，的均勻性和精確的厚度控制。它提供*的過程控制，故障安全報(bào)警和完整的數(shù)據(jù)采集和報(bào)告軟件系統(tǒng)。

ILHC使用射頻(RF)產(chǎn)生的等離子體，結(jié)合*的傳送系統(tǒng)中清楚地闡明和*集成封裝。該設(shè)計(jì)便于安裝和維護(hù)。

特性:

• 連續(xù)流處理
• 定制托盤和基板夾具
• 可配置的等離子源設(shè)計(jì)從小到大可擴(kuò)展
• 三維零件或超高容量小零件加工
• 根據(jù)工藝要求，靈活地用RF功率發(fā)生器和AMU
• GUI圖形用戶界面軟件符合CFR第21部分11和Semi E95-1101
• 自家開發(fā)的用戶訪問控制系統(tǒng)
• 可準(zhǔn)確地控制Lot-to-Lot的重復(fù)性
• 通過以太網(wǎng)遠(yuǎn)程統(tǒng)計(jì)過程控制監(jiān)控
• 具即時(shí)診斷功能和警報(bào)記錄
• 配方編輯器提供了快速和靈活的步控制功能
• 大LCD觸摸設(shè)置，Windows®的控制面板和鍵盤
• 免人手操作
　

可進(jìn)行多種類界面

* 輸出功率高達(dá) ：
每月500,000 devices
（基本尺寸：1” x 1” Devices）

* 根據(jù)界面的形狀：
非均勻性降低至5%

RF 射頻等離子清洗/鍍膜系統(tǒng)

IoN 3B　

特性:

腔室尺寸( D x H): 140mm x 200mm x 110mm
功率: 100 Watts
氣體噴淋: Integrated door
單個(gè)氣體管路: Mass Flow Controller for gas control, 50 sccm
可視窗口: 45mm dia.
顯示屏: 7" touch screen, PC Interface
編程控制: Upto 10 receipies with 10 steps can
壓力測(cè)量: Pirani Gauge

IoN 7B　

特性:

腔室尺寸( D x H): 200mm x 220mm x 160mm
功率: 200 Watts
氣體噴淋: Integrated door
單個(gè)氣體管路: Mass Flow Controller for gas control, 100 sccm
可視窗口: 45mm dia.
顯示屏: 7" touch screen, PC Interface
編程控制: Upto 10 receipies with 10 steps can
壓力測(cè)量: Pirani Gauge