不規則非球面光學元件應力分布測量系統（透鏡測量等）不規則非球面光學元件（光刻機透鏡等）應力分布測量系統利用調制器技術，公司的測量系統可以在深紫外（193nm）波段進行應力雙折射探測

不規則非球面光學元件應力分布測量系統

（透鏡測量等）

不規則非球面光學元件（光刻機透鏡等）應力分布測量系統

利用調制器技術， 公司的測量系統可以在深紫外（193nm）波段進行應力雙折射探測。針對特定材料制作（氟化鈣）和特定形狀（非球面透鏡）有著的技術解決方案。

應力雙折射測量系統，非球面透鏡應力雙折射測量，應力，應力橢偏測量

Hinds 公司的不規則非球面光學元件應力分布測量系統（應力雙折射測量系統）通過對光的調制解調可以測出待測光學元件中的雙折射大小和方向，這些數據同時也表示了應力的大小和方向。Hinds 公司這套不規則非球面光學元件應力分布測量系統的傾斜，多角度入射掃描技術可以保證對非球面不規則的光學元件（光刻機透鏡等）有著的掃描測量解決方案。

產品特點：
1. 全套內置軟件自動掃描成圖
2. 非球面掃描（手動宏程序）
3. 應力大小及方向分布探測成圖
4. 定制各種尺寸形狀樣品臺
5. 探測強度：皮瓦

產品參數：
1. 可見光波段探測延遲范圍：0 to 300+nm
2. 深紫外波段探測延遲范圍：0 to 90+nm
3. 可見光波段應力探測精度：0.001nm / ±0.03 (up to 3nm, 1% thereafter)
4. 深紫外波段應力探測精度：0.001nm / ± 0.08 nm (up to 4nm, 2% thereafter)