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荷蘭4PICO 大幅面無掩模激光直寫光刻機PicoMaster XF 500-H

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PicoMaster XF 500-H 是一款具有超高精度的多功能紫外激光直寫設備,它具有每毫米超過1200條線的輸出能力,特別適合用戶在光敏層上自由地創造微結構。的全息設計軟件,提供了許多預先安裝的全息效果及其光柵、結構的運算方法,它們可以很輕松地將把這些效果組合起來,十分利于用戶的產品開發。同時軟件也允許用戶添加自己的算法和結構,來定制數據庫、完善產品設計。

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PicoMaster XF 500-H 是一款具有超高精度的多功能紫外激光直寫設備,它具有每毫米超過1200條線的輸出能力,特別適合用戶在光敏層上自由地創造微結構。的全息設計軟件,提供了許多預先安裝的全息效果及其光柵、結構的運算方法,它們可以很輕松地將把這些效果組合起來,十分利于用戶的產品開發。同時軟件也允許用戶添加自己的算法和結構,來定制數據庫、完善產品設計。


系統優點

v使用GLV (Grating Light Valve)技術,可實現高達1000個單位像素的激光束高速并行直寫;

v構建獨立設計庫,可完成自由度的3D光刻,并支持標準圖像源、個性化的3D設計源;

v支持 0.5米 x 0.5米的激光直寫面積,低規格條件下,直寫只需55個小時;

v選擇關閉灰度寫入功能,直寫相同曝光面積,其直寫速度將提升2倍;

v可定制更大幅面的無掩模激光直寫系統解決方案.



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