Talint EDU X射線相襯、暗場成像套件
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- 公司名稱 北京眾星聯(lián)恒科技有限公司
- 品牌
- 型號 TalintEDU
- 所在地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時間 2024/1/27 18:46:57
- 訪問次數(shù) 152
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Talint EDU: 模塊化、高性價比的X射線相襯、暗場成像套件 X射線相位襯度成像和傳統(tǒng)的X射線吸收成像相比,X射線相位襯度成像能夠為輕元素樣品提供更高的襯度,特別適合用于對軟組織和輕元素構(gòu)成的樣品進行成像。 目前,主要的5類相襯成像方式中,大部分對光源的相干性要求,只能在同步輻射光源或者借助微焦點X射線源實現(xiàn)。而光柵法相襯成像,經(jīng)過十多年的發(fā)展,已經(jīng)成為在實驗室實施相襯成像實驗的主流技術(shù)路線。 但是,高深寬比和大視場光柵的制作一直是困擾研究人員的一個痛點,LIGA技術(shù)的出現(xiàn)及成熟,使得制作此類的光柵的制作變得更加的容易及可靠。 基于X射線相襯成像的光柵利用Talbot自成像效應來獲取有關(guān)X射線因折射和散射而產(chǎn)生的微小角度偏轉(zhuǎn)的信息。這在醫(yī)學成像到材料研究等各個領(lǐng)域都有潛在的應用。 但是對于剛進入這一研究領(lǐng)域的科研工作者或者想單純快速相襯圖片的用戶來說,繁瑣的光柵參數(shù)模擬、全新開模制作光柵價格昂貴、與此同時精密平移臺的選擇及精密調(diào)節(jié)都將耗費大量的精力。 為了解決的這個問題,德國microworks公司推出了一套模塊化、高性價比的X射線相襯、暗場成像套件 TALINT EDU Microworks的TALINTEDU系統(tǒng)是一種緊湊、物美價廉的TALbot干涉儀套件。它是X射線Talbot-Lau干涉儀的巧妙簡化形式,包括所有必要的硬件來建立和微調(diào)干涉儀,以及通過相位步進步驟來獲得三種成像模式應用:吸收成像、相襯成像和暗場成像。 在不到半小時的時間內(nèi),它可以像另一個探測器一樣容易安裝。 對于這個簡化的系統(tǒng)來說圖 像采集是手動的,在相位步進過程中獲得的圖像非常適合于圖像分析科學家。 選擇光柵組 (含3塊光柵) TALINT-EDU 為一維光柵對稱結(jié)構(gòu),除上述標準光柵套組外,還可根據(jù)要求提供其他能量段,視場等定制光柵。 CFRP拉伸試驗試棒 相襯成像增強了空腔折射信號的成像襯度 暗場成像增強了由纖維束引起的散射信號的成像襯度 裂紋損傷 暗場成像增強了發(fā)絲狀裂紋散射信號的成像襯度 3D打印鈦波紋管 暗場成像增強了殘留粉末散射信號的成像襯度標準規(guī)格參數(shù) 設計能量-40 keV 設計能量-21 keV 光柵周期(3塊) 6.00μm 4.80μm G0 G2 吸收材料及高度 金>150μm 金>50μm G0 G2 光柵占空比 0.55(容差范圍0.5-0.6) 0.55(容差范圍0.5-0.6) G0 G2 光柵襯底 石墨 400μm 石墨 400μm G1 相移材料及高度 Gold 7.7 μm (40 keV) Nickel 7.4 μm (21 keV) G1 光柵占空比 0.5(容差范圍0.45-0.55) 0.5(容差范圍0.45-0.55) G1 光柵基底 硅 200μm 硅 200μm 視場范圍(樣品) 35mm 35mm 吸收像 相位像 暗場像 吸收像 暗場像 照片 吸收像 暗場像
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