P系列顯微鏡-擁有的光學系統和新一代的光學技術并內置明場、暗場、偏光、微分干涉(DIC)等多種觀察方式。偏光可用于顯示材料的紋理和晶體樣貌，其非常適合檢測晶片和LCD結構；微分干涉差(DIC)用于幫助觀察具有細微高度差異的樣品，該技術非常適合用于檢測諸如磁頭、硬盤介質、以及拋光晶片等具有很小高度差的樣品；暗場是檢測標本上細微劃痕或缺陷以及晶片等鏡面樣品的理想工具。

                             PA53MET

顯微鏡系統具有多種功能，采用符合人體工學的易用設計，能夠提供 300mm 晶圓、平板顯示器、印刷電路板、以及其他大型樣本的高品質觀察。該產品采用靈活的模塊設計，能夠提供適用于多種檢查用途的觀察系統。

                                                 Panthera TEC

通過與華顯光學EOC 圖像分析軟件結合，讓操作者更容易獲得所需的圖像和對產品的檢查；不僅可對樣品進行微觀觀察，還能進行二維三維等精準的數據測量，從觀察到報告生成在內的整體檢查過程都變得簡單而流暢。可廣泛應用在半導體、紡織、材料科學、醫療、新能源、電子等行業。

                     HXJ-MX6R