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簡介：快速退火爐，采用紅外燈管加熱，高精度運動平臺控制爐管的升降，可獲得zui快的升降溫速率；真空級法蘭密封，結合我司真空、混氣系統，可以抽真空通氣氛；爐管垂直方向工作，爐蓋可打開，通過電動平臺移動爐管...

簡介：快速退火爐，采用紅外燈管加熱，高精度運動平臺控制爐管的升降，可獲得zui快的升降溫速率；真空級法蘭密封，結合我司真空、混氣系統，可以抽真空通氣氛；爐管垂直方向工作，爐蓋可打開，通過電動平臺移動爐管...

簡介：紅外加熱快速升溫爐由我公司自主研發的一款新型產品，該主品采用進口紅外線加熱管加熱，歐陸nanodac彩色液晶記錄儀溫度控制，控溫精度高，響應時間快；立式結構，爐體能自動升降，可實現快速升降溫；底部...

簡介：紅外加熱快速升溫爐由我公司自主研發的一款新型產品，該主品采用進口紅外線加熱管加熱，歐陸nanodac彩色液晶記錄儀溫度控制，控溫精度高，響應時間快；立式結構，爐體能自動升降，可實現快速升降溫；底部...

簡介：1700℃高低溫沖擊試驗爐是用于試驗件從1600℃到-60℃的快速轉換試驗。高低溫區采用絲桿自動控制，整個轉換過程在較短時間內完成。設備區分為高溫區、低溫區、過渡區三部分，各區之間?用隔熱處理。低...

簡介：1700℃高低溫沖擊試驗爐是用于試驗件從1600℃到-60℃的快速轉換試驗。高低溫區采用絲桿自動控制，整個轉換過程在較短時間內完成。設備區分為高溫區、低溫區、過渡區三部分，各區之間?用隔熱處理。低...

簡介：800℃空氣循環箱式爐SHXL-800,內置特種耐高溫不銹鋼導流板，可優化空氣循環。適于退火、固化、固溶退火、人工老化、預熱或軟化退火等工藝。

簡介：800℃空氣循環箱式爐SHXL-800,內置特種耐高溫不銹鋼導流板，可優化空氣循環。適于退火、固化、固溶退火、人工老化、預熱或軟化退火等工藝。

簡介：1400℃攪拌提拉爐采用智能化觸摸屏控制，提拉速度可精確調整控制，精度可達0.01mm/sec；爐體為上開門式結構，爐體上蓋部分采用*的手提式保溫蓋，方便觀察爐膛內情況。

簡介：1400℃攪拌提拉爐采用智能化觸摸屏控制，提拉速度可精確調整控制，精度可達0.01mm/sec；爐體為上開門式結構，爐體上蓋部分采用*的手提式保溫蓋，方便觀察爐膛內情況。

簡介：CVI-1700系統由SGL-1700L真空管式爐，HQZ-Ⅳ混氣系統，真空壓強控制系統，尾氣冷凝收集處理系統等組成。真空泵采進口抗腐蝕隔膜真空泵，真空度可達到7.5x10-1Torr；可實現多路...

簡介：CVI-1700系統由SGL-1700L真空管式爐，HQZ-Ⅳ混氣系統，真空壓強控制系統，尾氣冷凝收集處理系統等組成。真空泵采進口抗腐蝕隔膜真空泵，真空度可達到7.5x10-1Torr；可實現多路...

簡介：PECVD開啟式管式爐系統在真空壓力下，加在電感線圈的射頻電場，使反應室氣體發生輝光放電，在輝光發電區域產生大量的電子。這些電子在電場的作用下獲得充足的能量，其本身溫度很高，它與氣體分子相碰撞，使...

簡介：PECVD開啟式管式爐系統在真空壓力下，加在電感線圈的射頻電場，使反應室氣體發生輝光放電，在輝光發電區域產生大量的電子。這些電子在電場的作用下獲得充足的能量，其本身溫度很高，它與氣體分子相碰撞，使...

簡介：實驗電爐PECVD系統主要用于高校、科研院所用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備，生長薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復合薄膜等，也可作為擴展等離子清洗刻蝕使用。

簡介：實驗電爐PECVD系統主要用于高校、科研院所用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備，生長薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復合薄膜等，也可作為擴展等離子清洗刻蝕使用。

簡介：氣簾密封式連續走絲沉積爐（碳纖維制備爐）產品參數正在更新中

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簡介：石墨烯生長爐由滑動開啟式真空管式爐，混氣系統，真空及壓力系統等組成。通過滑動爐體來實現快速的升降溫；配置不同的真空系統來達到理想的真空度；同時通過三路高精度質量流量計控制不同氣體。

簡介：石墨烯生長爐由滑動開啟式真空管式爐，混氣系統，真空及壓力系統等組成。通過滑動爐體來實現快速的升降溫；配置不同的真空系統來達到理想的真空度；同時通過三路高精度質量流量計控制不同氣體。