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簡介：原子層沉積ALD是基于順序使用氣相化學過程的重要技術之一,它可以被視為一種特殊類型的化學氣相沉積CVD.多數ALD反應使用兩種或更多種化學物質（稱為前驅物,也稱為“反應物??”）.這些前驅物以一種...

簡介：上海伯東針對薄膜封裝推出電漿輔助式化學氣相沉積,原子層沉積和聚對二甲苯沉積等三種設備,且使用低溫的沉積技術,分別在OLED上堆疊多層薄膜,廣泛應用于有機發光二極體,有機光伏打電池和材料科學研究.

簡介：上海伯東代理的金屬熱蒸鍍設備加裝美國KRI離子源,可以精準的控制蒸發速度,為客戶提供*的復合式薄膜,且薄膜的厚度和均勻度小于+/-3％,廣泛應用于納米薄膜,太陽能電池等行業以及金屬材料的研究等.

簡介：上海伯東代理的連續式多腔磁控濺鍍設備可準確控制其濺鍍制程條件,為客戶提供更優質的薄膜,廣泛應用于納米研究技術,材料研究,氧化物,氮化物和金屬材料的研究,太陽能電池和觸碰螢幕等行業.

簡介：上海伯東代理多層膜磁控濺鍍設備Multilayersputter擁有基板公自轉機構,搭配美國KRI離子源可實現多層膜結構并可以一次批量生產,廣泛應用于半導體,納米科技,太陽能電池,科研等行業,氧化...

簡介：超高真空環境的特征為其真空壓力低于10-8至10-12托,超高真空環境對于科學研究非常重要,因實驗通常要求在整個過程中,表面應保持無污染狀態并可使用較低能量的電子和離子的實驗技術使用,而不會受到氣...

簡介：上海伯東代理的磁控共濺鍍腔提供了準確控制多個磁控濺鍍的制程條件,加裝美國KRi離子源為客戶提供更好質量的復合式薄膜.單片和多片式的loadingchamber,可節省其制程腔體的抽氣時間,進而節省...

簡介：上海伯東代理剝離成形電子束設備可以準確的控制蒸發速度,因此薄膜厚度和均勻度皆小于±3％,客制化的基板尺寸,zui大直徑可達12寸晶圓,腔體的極限真空度約為10-8Torr.

簡介：KT-Z1650CVD是一款小型臺式加熱功率可控蒸發鍍膜儀，儀器雖小功能齊全。配備7寸觸摸屏人工界面，具有電流時間工藝儲存功能。配備有電壓電流反饋,樣品臺旋轉，樣品高度調節，及自動電動樣品擋板功能...

簡介：小型離子濺射儀鄭州科探KT-Z1650PVD，能夠在非導電或導電不良的樣品上涂布金（Au），鈀（Pd），鉑（Pt）和金/鈀（Au/Pd）實驗室用鄭科探KT-Z1650PVD小型磁控濺射儀的薄膜。在...