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高純硅分析等離子體發(fā)射光譜儀

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簡要描述: 高純硅分析等離子體發(fā)射光譜儀作為一種大型精密無機(jī)分析儀器,廣泛應(yīng)用于稀土、貴金屬、合金材料、電子產(chǎn)品、醫(yī)藥衛(wèi)生、冶金、地質(zhì)、石油、化工、商檢、環(huán)保以及釹鐵硼、硅、硅鐵、鎢、鉬等行業(yè)分析檢測,可對待測樣品進(jìn)行定性或從超微量到常量的定量分析。是集光、機(jī)、電、計算機(jī)、分析技術(shù)于一體的產(chǎn)品,具有測試速度快、測量范圍寬、分析結(jié)果準(zhǔn)確可靠等特點。

詳細(xì)信息 在線詢價

北京華科易通分析儀器有限公司,是高純硅分析等離子體發(fā)射光譜儀的專業(yè)制造廠商。它是集科研、生產(chǎn)、銷售、技術(shù)服務(wù)于一體的高科技企業(yè)。HK-2000高純硅分析等離子體發(fā)射光譜儀,是我公司在現(xiàn)有技術(shù)的基礎(chǔ)上,吸收國際技術(shù)成果研制開發(fā)的產(chǎn)品。

ICP-AES/OES),主要用于微量/痕量元素的分析,可分析的元素為大多數(shù)的金屬和硅,磷等少量的非金屬,共72種。廣泛應(yīng)用于稀土、貴金屬、合金材料、電子產(chǎn)品、醫(yī)藥衛(wèi)生、冶金、地質(zhì)、石油、化工、商檢、環(huán)保以及釹鐵硼、硅、硅鐵、鎢、鉬等行業(yè)分析檢測,可對待測樣品進(jìn)行定性或從超微量到常量的定量分析。

一、儀器整機(jī)主要性能參數(shù):

1、波長范圍:190500nm3600L/mm光柵)或190800nm2400L/mm光柵);

2、分辨率: 0.006nm3600L/mm光柵)或0.01nm2400L/mm光柵);

3、波長示值誤差和重復(fù)性:波長示值誤差≤0.02nm,重復(fù)性≤0.003nm

4、掃描步距:0.0004nm

5、重復(fù)性:RSD1.0%

6、穩(wěn)定性:RSD1.5%

7、檢出限:ppb級;

8、分析元素范圍:70余種金屬與非金屬元素;

9、線性范圍:7個數(shù)量級以上,且自吸效應(yīng)極低;

10、分析速度:每分鐘掃描zui快達(dá)25個元素以上;

11、等級證書:國家計量器具型式許可A級(且遠(yuǎn)優(yōu)于A級)。

12、必須有生產(chǎn)許可證:且規(guī)格要求滿足,測量范圍:190-500nm

13 規(guī)格大小:長寬高:1.5m0.60mX1.2立式儀器方便推挪,免裝試驗臺*

二、儀器各部件詳細(xì)參數(shù):

射頻發(fā)生器(RF

1)電路類型:電感反饋自激式振蕩電路、同軸電纜輸出、匹配調(diào)諧、取功率反饋信號,進(jìn)行閉環(huán)自動控制;

2工作頻率:40.68MHz±0.05%

3)頻率穩(wěn)定性:≤0.05%

4)輸出功率:8001200W

分光器

1)光路:CzernyTurner

2)焦距:1000mm

3)光柵規(guī)格:離子刻蝕全息光柵;

4)分光器恒溫裝置:26℃±1℃。

測光裝置

1光電倍增管規(guī)格:R212UHR928

2測光方式:單、多元素順序測量

操作軟件:

1)操作系統(tǒng):Windows XP 操作平臺;

2)測定波長數(shù):任意選擇;

3)分析速度:每分鐘zui快25個元素以上;

4)數(shù)據(jù)庫:譜線庫11萬條以上

5多窗口:在測量完一次結(jié)果后可以在顯示窗口保留上次結(jié)果同時、測量下一樣品

6)標(biāo)準(zhǔn)加入法:軟件要有標(biāo)準(zhǔn)加入法,以便在不同條件和應(yīng)用中下使用;

7分析模式:軟件默認(rèn)分析模式,擁有儀器診斷、譜圖分析及幾種測量方式和幾種積分模 式,單位任選等多種功能;

8)歷史數(shù)據(jù)庫:在歷史數(shù)據(jù)庫中,可以同時可選擇性地打印想要打印的批次分析結(jié)果;

9)數(shù)據(jù)輸出:軟件支持激光打印機(jī)打印分析結(jié)果。

10)語言:可中英文雙語


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